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原文传递一种奈西立肽的肽图分析方法及其应用

专利名称：	一种奈西立肽的肽图分析方法及其应用
摘要：	本发明提供一种奈西立肽的肽图分析方法及其应用。所述方法包括如下步骤：将奈西立肽还原并烷基化，加入肽链内切酶进行酶解，之后使用LC‑UV‑MS检测，并根据采集到的肽图数据对所述奈西立肽酶解后形成的多肽片段和/或氨基酸残基进行归属。本发明提供的肽图分析方法，在将奈西立肽进行还原和烷基化之后，使用肽链内切酶将其酶解为多个多肽片段和氨基酸残基，并通过LC‑UV‑MS检测将多肽片段和氨基酸残基与肽图中的峰正确对应，从而达到准确判断奈西立肽的多肽链是否存在缺失、错连或重复等现象。
专利类型：	发明专利
申请人：	上海景峰制药有限公司
发明人：	李帅;苏春所;刘美;卓芳芳
专利状态：	有效
申请日期：	1900-01-20T23:00:00+0805
发布日期：	1900-01-20T10:00:00+0805
申请号：	CN201911338579.1
公开号：	CN110988244A
代理机构：	北京品源专利代理有限公司
代理人：	巩克栋
分类号：	G01N30/88;G;G01;G01N;G01N30;G01N30/88
申请人地址：	201900 上海市宝山区罗新路50号
主权项：	1.一种奈西立肽的肽图分析方法，其特征在于，包括如下步骤：将奈西立肽还原并烷基化，加入肽链内切酶进行酶解，之后使用LC-UV-MS检测，并根据采集到的肽图数据对所述奈西立肽酶解后形成的多肽片段和/或氨基酸残基进行归属。 2.根据权利要求1所述的肽图分析方法，其特征在于，所述肽图分析方法包括如下步骤： (1)使用还原剂将奈西立肽还原，之后加入烷基化试剂将还原后的奈西立肽烷基化； (2)使用肽链内切酶将烷基化的奈西立肽酶解得到多肽片段和/或氨基酸残基； (3)使用LC-UV-MS对所述多肽片段进行检测，并根据采集到的肽图数据，对所述奈西立肽酶解后形成的多肽片段和/或氨基酸残基进行归属。 3.根据权利要求1或2所述的肽图分析方法，其特征在于，所述LC-UV-MS的流动相包括流动相A和流动相B，所述流动相A为甲酸水溶液，所述流动相B为甲酸乙腈溶液；优选地，所述甲酸水溶液中甲酸的体积分数为0.1-1％；优选地，所述甲酸乙腈溶液中甲酸的体积分数为0.1-1％；优选地，所述LC-UV-MS的检测柱温为55-60℃；优选地，所述LC-UV-MS使用的色谱柱为烷基硅烷键合硅胶反相色谱柱，优选为十八烷基硅烷键合硅胶反相色谱柱。 4.根据权利要求1-3任一项所述的肽图分析方法，其特征在于，所述LC-UV-MS采用梯度洗脱：优选地，所述梯度洗脱的参数为：第一阶段，流动相A体积分数为95-99％，流动相B体积分数为1-5％，持续2-2.5min，第二阶段，流动相A体积分数为95-99％，流动相B体积分数为1-5％，持续6-7min，第三阶段，流动相A体积分数为50-70％，流动相B体积分数为30-50％，持续2-2.5min，第四阶段，流动相A体积分数为1-5％，流动相B体积分数为95-99％，持续4-5min，第五阶段，流动相A体积分数为1-5％，流动相B体积分数为95-99％，持续0.2-0.3min，第六阶段，流动相A体积分数为95-99％，流动相B体积分数为1-5％洗脱至15-20min。 5.根据权利要求1-4任一项所述的肽图分析方法，其特征在于，所述LC-UV-MS的紫外检测波长为210-220nm；优选地，所述LC-UV-MS中液相检测部分使用UPLC进行检测；优选地，所述LC-UV-MS中质谱检测模式为Q-TOF正离子模式；优选地，所述LC-UV-MS中质谱检测电压为2800-3000V；优选地，所述LC-UV-MS中质谱的检测温度为300-350℃；优选地，所述肽图分析方法还包括使用HILIC进行检测的步骤。 6.根据权利要求1-5任一项所述的肽图分析方法，其特征在于，所述肽图分析方法中还原和烷基化过程在缓冲液中进行；优选地，所述缓冲液为碳酸氢铵缓冲液；优选地，所述碳酸氢铵缓冲液中碳酸氢铵的摩尔浓度为0.1-0.4mol/L，优选为0.1mol/L。 7.根据权利要求1-6任一项所述的肽图分析方法，其特征在于，所述还原剂为二硫苏糖醇；优选地，所述二硫苏糖醇的摩尔浓度为0.1-0.4mol/L，优选为0.1mol/L。 8.根据权利要求1-7任一项所述的肽图分析方法，其特征在于，所述烷基化试剂为碘乙酰胺；优选地，所述碘乙酰胺的摩尔浓度为0.25-0.5mol/L，优选为0.25mol/L；优选地，所述肽图分析方法中在烷基化结束之后还包括使用MS检测的步骤。 9.根据权利要求1-8任一项所述的肽图分析方法，其特征在于，所述肽链内切酶为胰蛋白酶和/或糜蛋白酶，优选为糜蛋白酶。 10.如权利要求1-9任一项所述的肽图分析方法在检测和/或鉴定奈西立肽中的应用。
所属类别：	发明专利