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原文传递一种防模组位移的周转盘

专利名称：	一种防模组位移的周转盘
摘要：	本实用新型公开了一种防模组位移的周转盘，包括盘本体，所述盘本体顶部设置有防位移机构；所述防位移机构包括凹凸型摩擦面、小型磨砂盘和橡胶块；所述盘本体顶部开设有凹凸型摩擦面，所述凹凸型摩擦面的凹型处内部固定连接有橡胶块，且凹凸型摩擦面形成的十字处顶部固定连接有小型磨砂盘。本实用新型通过在盘本体上设置有凹凸型摩擦面和小型磨砂盘，利用凹凸型摩擦面和小型磨砂盘增加摩擦面积，来加大盘与模组接触面的摩擦力，达到防止位置移动的目的，有利于更为实用的使用一种防模组位移的周转盘。
专利类型：	实用新型
国家地区组织代码：	江西;36
申请人：	江西盛泰光学有限公司
发明人：	卢桂生;林映庭;宋凯静
专利状态：	有效
申请日期：	2019-12-09T00:00:00+0800
发布日期：	2020-09-01T00:00:00+0800
申请号：	CN201922178946.8
公开号：	CN211392059U
分类号：	B65D19/38;B65D19/44;B;B65;B65D;B65D19;B65D19/38;B65D19/44
申请人地址：	336600 江西省新余市分宜城东工业园盛泰科技
主权项：	1.一种防模组位移的周转盘，包括盘本体(1)，其特征在于：所述盘本体(1)顶部设置有防位移机构；所述防位移机构包括凹凸型摩擦面(2)、小型磨砂盘(6)和橡胶块(4)；所述盘本体(1)顶部开设有凹凸型摩擦面(2)，所述凹凸型摩擦面(2)的凹型处内部固定连接有橡胶块(4)，且凹凸型摩擦面(2)形成的十字处顶部开设有圆槽(5)，所述圆槽(5)内部固定连接有小型磨砂盘(6)。 2.根据权利要求1所述的一种防模组位移的周转盘，其特征在于：所述凹凸型摩擦面(2)顶部喷涂有环氧防滑涂层(3)。 3.根据权利要求1所述的一种防模组位移的周转盘，其特征在于：所述盘本体(1)为不锈金属材质。
所属类别：	实用新型