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原文传递一种基于压力敏感漆的气膜冷却效率测量修正方法

专利名称：	一种基于压力敏感漆的气膜冷却效率测量修正方法
摘要：	本发明公开了一种基于压力敏感漆的气膜冷却效率测量修正方法，包括以下步骤：通过标定，获取光强和氧分压之间的关系模型；根据需求，配置特定的含氧混合气；在待测模型的表面喷涂压力敏感漆；采用所述特定的含氧混合气结合所述待测模型，获取四种特定环境下的待测模型；对每一种特定环境下待测模型表面进行采集，获取对应的所述待测模型表面的光强图像；基于所述光强图像，通过计算获取所述待测模型表面的气膜冷却效率。本发明通过特定的含氧混合气修正了压敏漆测量气膜冷却效率过程中压力假设带来的偏差，提高了气膜冷却效率测量的准确度。
专利类型：	发明专利
国家地区组织代码：	北京;11
申请人：	北京航空航天大学
发明人：	谢刚;楼雨杼;陶智;李海旺;周志宇;张鲸涵
专利状态：	有效
申请日期：	2023-08-08T00:00:00+0800
发布日期：	2023-11-14T00:00:00+0800
申请号：	CN202310988580.9
公开号：	CN117054285A
代理机构：	北京盛询知识产权代理有限公司
代理人：	郭英
分类号：	G01N7/00;G01L11/02;G01M15/02;G01M15/14;G;G01;G01N;G01L;G01M;G01N7;G01L11;G01M15;G01N7/00;G01L11/02;G01M15/02;G01M15/14
申请人地址：	100191 北京市海淀区学院路37号
主权项：	1.一种基于压力敏感漆的气膜冷却效率测量修正方法，其特征在于，包括以下步骤：通过标定，获取光强和氧分压之间的关系模型；根据需求，配置特定的含氧混合气；在待测模型的表面喷涂压力敏感漆；采用所述特定的含氧混合气结合所述待测模型，获取四种特定环境下的待测模型；对每一种特定环境下待测模型表面进行采集，获取对应的所述待测模型表面的光强图像；基于所述光强图像，通过计算获取所述待测模型表面的气膜冷却效率。 2.如权利要求1所述的基于压力敏感漆的气膜冷却效率测量修正方法，其特征在于，所述四种特定环境包括第一种特定环境、第二种特定环境、第三种特定环境和第四种特定环境；所述第一种特定环境为无光、无流动环境；所述第二种特定环境为有光、无流动环境；所述第三种特定环境为有光、有流动、射流为特定的含氧混合气的环境；所述第四种特定环境为有光、有流动、射流为异性气体的环境。 3.如权利要求2所述的基于压力敏感漆的气膜冷却效率测量修正方法，其特征在于，所述特定的含氧混合气由一定的比例的氧气、氩气和六氟化硫组合而成。 4.如权利要求2所述的基于压力敏感漆的气膜冷却效率测量修正方法，其特征在于，所述第三种特定环境中使用的特定的含氧混合气的密度与所述第四种特定环境的异性气体的密度相同，所述第三种特定环境中使用的特定的含氧混合气的氧气摩尔分数与空气中氧气摩尔分数相同。 5.如权利要求2所述的基于压力敏感漆的气膜冷却效率测量修正方法，其特征在于，通过标定，获取光强和氧分压之间的关系模型包括：选取参考条件，所述参考条件的氧分压与温度和所述第二种特定环境的氧分压与温度相同，将参考条件时的光强作为参考光强；标定得到光强与氧分压之间的关系模型：其中，Iref是参考光强；I1为无光、无流动环境待测模型表面的光强；x为标定过程中变化的环境，Ix为x环境下标定模型表面的光强；为参考条件下的氧分压；/>为x环境下标定模型表面的氧分压；Tref为参考温度。 6.如权利要求2所述的基于压力敏感漆的气膜冷却效率测量修正方法，其特征在于，采集每一种特定环境下待测模型表面，获取对应的所述待测模型表面的光强图像包括：基于所述第一种特定环境下，获取第一种光强图像；基于所述第二种特定环境下，获取第二种光强图像；基于所述第三种特定环境下，获取第三种光强图像；基于所述第四种特定环境下，获取第四种光强图像。 7.如权利要求6所述的基于压力敏感漆的气膜冷却效率测量修正方法，其特征在于，基于所述光强图像，通过计算获取所述待测模型表面的气膜冷却效率的方法为：对所述光强图像分别进行图像转换，得到氧分压的二维矩阵；基于所述氧分压的二维矩阵，通过计算获取所述待测模型表面的气膜冷却效率。 8.如权利要求7所述的基于压力敏感漆的气膜冷却效率测量修正方法，其特征在于，基于所述氧分压的二维矩阵，通过计算获取所述待测模型表面的气膜冷却效率的方法为：其中，η为气膜冷却效率，Wfg为异性气体分子量，Wair为空气分子量，为第三种特定环境下待测模型表面的氧分压，/>为第二种特定环境下待测模型表面的氧分压，为第四种特定环境下待测模型表面的氧分压。
所属类别：	发明专利