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原文传递电镀园区的地下管廊、电镀园区电镀废水的收集、处理方法

专利名称：	电镀园区的地下管廊、电镀园区电镀废水的收集、处理方法
摘要：	本发明公开了一种电镀园区的地下管廊、电镀园区电镀废水的收集、处理方法，属于电镀园区地下综合管廊领域。发明提供的电镀园区的地下管廊用于收集、处理电镀园区产生的电镀废水，包括了括分质收集系统、电镀废水处理系统、过滤池、排放系统和若干传输管道。本发明通过设置分质收集系统，对电镀园区产生的电镀废水进行分质收集处理，而不是将所有种类的电镀废水都汇集到一起后再进行净化，不仅可以防止不同种类电镀废水之间因为成分过于复杂容易发生化学反应产生毒物，还能降低净化处理的难度。
专利类型：	发明专利
国家地区组织代码：	广东;44
申请人：	惠州金茂源环保科技有限公司
发明人：	郭升彬;莫火斌;叶树勤;陈哲洋;陈素娟;钟嘉丽;甘水英;林贵彪
专利状态：	有效
申请日期：	2023-09-04T00:00:00+0800
发布日期：	2023-11-17T00:00:00+0800
申请号：	CN202311136813.9
公开号：	CN117071635A
代理机构：	深圳市恒程创新知识产权代理有限公司
代理人：	张小容
分类号：	E02D29/045;C02F1/00;C02F103/16;E;C;E02;C02;E02D;C02F;E02D29;C02F1;C02F103;E02D29/045;C02F1/00;C02F103/16
申请人地址：	516000 广东省惠州市博罗县龙溪镇夏寮村
主权项：	1.一种电镀园区的地下管廊，其特征在于，所述地下管廊包括分质收集系统、电镀废水处理系统、过滤池、排放系统和若干传输管道。 2.根据权利要求1所述电镀园区的地下管廊，其特征在于，所述分质收集系统、电镀废水处理系统、过滤池、排放系统和若干传输管道都设有液位传感器。 3.根据权利要求1所述电镀园区的地下管廊，其特征在于，所述输送管道内管的底部间隔设置挡网，所述挡网的高度小于等于所述输送管道内管半径。 4.根据权利要求3所述电镀园区的地下管廊，其特征在于，所述挡网的孔径范围为0.1cm-0.5cm。 5.根据权利要求1所述电镀园区的地下管廊，其特征在于，所述输送管的内管壁涂覆有防腐蚀涂层；和/或，所述输送管设有防水层。 6.根据权利要求1所述电镀园区的地下管廊，其特征在于，所述分质收集处理系统至少可接管5种电镀废水，所述接管的电镀废水的分质标准如下：含铬废水、络合废水、含氰废水、前处理废水和一般电镀废水。 7.根据权利要求6所述电镀园区的地下管廊，其特征在于，所述一般电镀废水包括综合废水和化学镀镍废水。 8.根据权利要求1所述电镀园区的地下管廊，其特征在于，所述电镀废水处理系统至少包括含铬废水处理池、络合废水处理池、含氰废水处理池、前处理废水处理池和一般电镀废水处理池。 9.根据权利要求1所述电镀园区的地下管廊，其特征在于，所述地下管廊还设有通风系统。 10.一种电镀园区电镀废水的收集、处理方法，其特征在于，电镀园区的电镀废水先通过输送管道输送至分质收集系统进行分质处理，经过分质处理之后的电镀废水通过所述输送管道流向电镀废水处理系统中对应的电镀废水处理池进行净化处理，完成净化处理后的电镀废水经过检测符合排放要求后经过过滤池进行过滤后由排放系统排放。
所属类别：	发明专利