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原文传递基板位移机构

专利名称：	基板位移机构
摘要：	一种基板位移机构，包含有：一基座；一X轴平台，具有一第一马达、一第二马达以及一第一框架，该第一马达具有一第一本体以及一第一导螺杆，该第一本体设于该基座；该第一框架设于该第一导螺杆而可受该第一马达驱动沿该第一导螺杆轴向位移；该第二马达具有一第二本体以及一第二导螺杆，该第二本体设于该第一框架；一Y轴平台，具有一第二框架以及多个反推构件，该第二框架设于该第二导螺杆而可受该第二马达驱动沿该第二导螺杆轴向位移；所述反推构件一端设于该基座，另一端设于该第二框架底部，所述反推构件相对该第二框架提供一反作用力而减轻该第二马达的负载；其中，该Y轴平台位移方向垂直该X轴平台位移方向。
专利类型：	发明专利
国家地区组织代码：	台湾;TW
申请人：	东捷科技股份有限公司
发明人：	叶公旭;林祈廷
专利状态：	有效
申请日期：	2008-05-21T00:00:00+0800
发布日期：	2019-01-01T00:00:00+0800
申请号：	CN200810107914.2
公开号：	CN101585449
代理机构：	中科专利商标代理有限责任公司
代理人：	汤保平
分类号：	B65G49/06(2006.01)I
申请人地址：	台湾省台南县
主权项：	1.一种基板位移机构，其特征在于，包含有：一基座；一X轴平台，具有一第一马达、一第二马达以及一第一框架，该第一马达具有一第一本体以及一第一导螺杆，该第一本体设于该基座；该第一框架设于该第一导螺杆而可受该第一马达驱动沿该第一导螺杆轴向位移；该第二马达具有一第二本体以及一第二导螺杆，该第二本体设于该第一框架；以及一Y轴平台，具有一第二框架以及多个反推构件，该第二框架设于该第二导螺杆而可受该第二马达驱动沿该第二导螺杆轴向位移；所述反推构件一端设于该基座，另一端设于该第二框架底部，所述反推构件相对该第二框架提供一反作用力而减轻该第二马达的负载；其中，该Y轴平台位移方向垂直该X轴平台位移方向。
所属类别：	发明专利