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原文传递 锇膜电阻线原子氧传感器芯片的制造方法
专利名称: 锇膜电阻线原子氧传感器芯片的制造方法
摘要: 锇膜电阻线原子氧传感器芯片的制造方法,它涉及锇膜电阻线构成的电阻 型原子氧传感器芯片的制造方法。本发明解决了现有工艺制备锇膜存在容易开 裂、原子氧测量的准确性差的问题。本发明方法如下:一、用物理气相沉积法 在基片上依次沉积铬膜和金膜;二、然后在金膜表面上电镀锇膜;三、在锇膜 表面形成线形的光刻胶图案;四、然后用电化学阳极溶解法刻蚀锇膜;五、再 用湿化学法刻蚀金膜,经去胶后即在基片表面形成锇膜电阻线。本发明制得芯 片的锇膜电阻线表面光滑平整,无微裂纹和针孔,线宽小,厚度大,因此该原 子氧传感器芯片的初始电阻较高,测量精度良好,原子氧反应率线性度高,可 连续在线长期稳定工作。本发明的方法工艺简单、操作方便。
专利类型: 发明专利
国家地区组织代码: 黑龙江;23
申请人: 哈尔滨工业大学
发明人: 贾 铮;姜利祥;李 涛;刘向鹏
专利状态: 有效
申请日期: 2009-05-13T00:00:00+0800
发布日期: 2019-01-01T00:00:00+0800
申请号: CN200910072016.2
公开号: CN101561407
代理机构: 哈尔滨市松花江专利商标事务所
代理人: 韩末洙
分类号: G01N27/12(2006.01)I
申请人地址: 150001黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号
主权项: 1、锇膜电阻线原子氧传感器芯片的制造方法,其特征在于锇膜电阻线原 子氧传感器芯片的制造方法是按下述步骤完成的:一、用物理气相沉积法在基 片上依次沉积铬膜和金膜;二、然后在金膜表面上电镀锇膜;三、涂胶、前烘、 曝光、显影、坚膜后在锇膜表面形成线形的光刻胶图案;四、然后用电化学阳 极溶解法刻蚀锇膜;五、再用湿化学法刻蚀金膜,经去胶后在基片表面形成锇 膜电阻线,得到锇膜电阻线原子氧传感器芯片。
所属类别: 发明专利
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