专利名称: | 锇膜电阻线原子氧传感器芯片的制造方法 |
摘要: | 锇膜电阻线原子氧传感器芯片的制造方法,它涉及锇膜电阻线构成的电阻 型原子氧传感器芯片的制造方法。本发明解决了现有工艺制备锇膜存在容易开 裂、原子氧测量的准确性差的问题。本发明方法如下:一、用物理气相沉积法 在基片上依次沉积铬膜和金膜;二、然后在金膜表面上电镀锇膜;三、在锇膜 表面形成线形的光刻胶图案;四、然后用电化学阳极溶解法刻蚀锇膜;五、再 用湿化学法刻蚀金膜,经去胶后即在基片表面形成锇膜电阻线。本发明制得芯 片的锇膜电阻线表面光滑平整,无微裂纹和针孔,线宽小,厚度大,因此该原 子氧传感器芯片的初始电阻较高,测量精度良好,原子氧反应率线性度高,可 连续在线长期稳定工作。本发明的方法工艺简单、操作方便。 |
专利类型: | 发明专利 |
国家地区组织代码: | 黑龙江;23 |
申请人: | 哈尔滨工业大学 |
发明人: | 贾 铮;姜利祥;李 涛;刘向鹏 |
专利状态: | 有效 |
申请日期: | 2009-05-13T00:00:00+0800 |
发布日期: | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
申请号: | CN200910072016.2 |
公开号: | CN101561407 |
代理机构: | 哈尔滨市松花江专利商标事务所 |
代理人: | 韩末洙 |
分类号: | G01N27/12(2006.01)I |
申请人地址: | 150001黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号 |
主权项: | 1、锇膜电阻线原子氧传感器芯片的制造方法,其特征在于锇膜电阻线原 子氧传感器芯片的制造方法是按下述步骤完成的:一、用物理气相沉积法在基 片上依次沉积铬膜和金膜;二、然后在金膜表面上电镀锇膜;三、涂胶、前烘、 曝光、显影、坚膜后在锇膜表面形成线形的光刻胶图案;四、然后用电化学阳 极溶解法刻蚀锇膜;五、再用湿化学法刻蚀金膜,经去胶后在基片表面形成锇 膜电阻线,得到锇膜电阻线原子氧传感器芯片。 |
所属类别: | 发明专利 |