专利名称: |
镀膜基片检测装置及镀膜基片检测方法 |
摘要: |
本发明提供一种镀膜基片检测装置。该镀膜基片检测装置包括一个具有相对两个端面的
暗箱、一个设置于该暗箱一个端面的光源、一个设置于该暗箱另外一个端面的光强度感测器
及一个与该光强度感测器电连接的透过率显示装置,该暗箱在该两个端面之间形成有一个暗
箱门及一个与该暗箱门对应的镀膜基片收容部,该镀膜基片收容部用于收容多片由该暗箱门
进出的镀膜基片。利用该镀膜基片检测装置可同时检测多片镀膜基片,检测效率高,且检测
标准统一,检测效果好。另外,本发明还提供一种镀膜基片检测方法。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
广东;44 |
申请人: |
鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
发明人: |
王仲培 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
2008-05-09T00:00:00+0800 |
发布日期: |
2019-01-01T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN200810301523.4 |
公开号: |
CN101576492 |
分类号: |
G01N21/59(2006.01)I |
申请人地址: |
518109广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号 |
主权项: |
1.一种镀膜基片检测装置,其特征在于包括一个具有相对两个端面
的暗箱、一个设置于该暗箱一个端面的光源、一个设置于该暗箱另外一个端面的光强度感测
器及一个与该光强度感测器电连接的透过率显示装置,该暗箱在该两个端面之间形成有一个
暗箱门及一个与该暗箱门对应的镀膜基片收容部,该镀膜基片收容部用于收容多片由该暗箱
门进出的镀膜基片。 |
所属类别: |
发明专利 |