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原文传递真空处理装置

专利名称：	真空处理装置
摘要：	本发明提供一种真空处理装置，是具备真空处理室(20、22、24)和基板搬运器(40)、和预备室(14)的立式真空处理装置(10)，其特征是，在预备室(14)内以及真空处理室(20、22、24)内设置往去路(16)和返回路(18)这两个搬送路径的同时，在真空处理室(24)内具备将基板搬运器从往去路(16)转移至返回路(18)的转移机构。
专利类型：	发明专利
申请人：	株式会社爱发科
发明人：	肉仓真人;森胜彦;中岛利夫;新井进
专利状态：	有效
申请日期：	2005-05-24T00:00:00+0800
发布日期：	2019-01-01T00:00:00+0800
申请号：	CN200880106136.3
公开号：	CN101916716A
代理机构：	中科专利商标代理有限责任公司 11021
代理人：	雒运朴
分类号：	H01L21/00(2006.01)I
申请人地址：	日本神奈川县
主权项：	一种真空处理装置，是以使基板在直立状态对基板进行真空处理的真空处理装置，其特征是，包括：对所述基板实施成膜处理的多个成膜室；载置所述基板并将其搬送的基板搬运器；第一搬送路径，其设在所述成膜室内，成为在所述多个成膜室之间进行搬送的所述基板搬运器的往去路；第二搬送路径，其设在所述成膜室内，成为在所述多个成膜室之间进行搬送的所述基板搬运器的返回路；转移机构，其设在所述多个成膜室的任意的至少一个的内部，将所述基板搬运器从所述第一搬送路径移动到所述第二搬送路径。
所属类别：	发明专利