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基板传送装置、基板传送方法以及真空处理装置
| 专利名称： | 基板传送装置、基板传送方法以及真空处理装置 |
| 摘要： | 一种使将基板以垂直状态传送的托架轻量化的基板传送装置。基板传送装置(11)向以垂直状态传送平板状的基板(W)的托架(23)交接基板，该基板传送装置(11)具备转移机构(22)。转移机构(22)包括：具有矩形的框体的、能以沿水平方向延伸的转动轴(L)为中心转动的框架(37)；设置在所述框架上，吸附所述基板(W)的多个吸垫(46)；和使所述框架在水平状态和垂直状态之间转动的驱动部(35)。转移机构(22)在框架处于水平状态的情况下通过多个吸垫将处于水平状态的基板(W)吸附，在将基板保持在框架上的状态不变的情况下，使所述框架从水平状态向垂直状态转动，将处于垂直状态的基板(W)交接至托架(23)。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 申请人： | 株式会社爱发科 |
| 发明人： | 远山佳宏 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请日期： | 2008-12-09T00:00:00+0800 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN200910015190.3 |
| 公开号： | CN101889339A |
| 代理机构： | 上海金盛协力知识产权代理有限公司 31242 |
| 代理人： | 段迎春 |
| 分类号： | H01L21/677(2006.01)I |
| 申请人地址： | 日本国神奈川县 |
| 主权项： | 一种基板传送装置，向以垂直状态传送平板状的基板的托架交接所述基板，其特征在于，包括：框架，其具有矩形的框体，并能够以沿水平方向延伸的转动轴为中心转动；多个吸垫，其设置在所述框架上，吸附所述基板；和驱动部，其使所述框架在水平状态和垂直状态之间转动，所述转移机构在所述框架处于水平状态的情况下通过所述多个吸垫吸附处于水平状态的所述基板，在将所述基板保持在所述框架上的状态不变的情况下，使所述框架从水平状态向垂直状态转动，将处于垂直状态的所述基板交接至所述托架。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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