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原文传递 基板处理装置以及基板处理方法
专利名称: 基板处理装置以及基板处理方法
摘要: 本发明提供一种基板处理装置和基板处理方法。基板反转移动装置包括反 转机构和移动机构。在旋转机构中内置有马达等,通过连杆机构,能够使分别 固定有第一和第二支承构件的第一可动构件和第二可动构件围绕水平方向的 轴旋转例如180度。此外,在底座上与V方向平行地固定有一对的搬运导轨。 一对滑动块被安装在一对搬运导轨上且能够自由滑动。在滑动块上安装有反转 机构的座板部。直动机构使驱动部在与搬运导轨平行的方向上移动,从而使反 转机构沿着搬运导轨在V方向进行往复移动。
专利类型: 发明专利
申请人: 大日本网目版制造株式会社
发明人: 桥本光治
专利状态: 有效
申请日期: 2008-01-15T00:00:00+0800
发布日期: 2019-01-01T00:00:00+0800
申请号: CN200810003188.X
公开号: CN101226878
代理机构: 隆天国际知识产权代理有限公司
代理人: 徐 恕
分类号: H01L21/00(2006.01)I
申请人地址: 日本京都府京都市
所属类别: 发明专利
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