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原文传递基板处理装置及基板处理方法

专利名称：	基板处理装置及基板处理方法
摘要：	本发明防止处理液的蒸气和雾气从处理室内向处理室外泄漏。在容器 (2)的内部形成处理室。容器(2)由非磁性材料构成。喷雾器(3)在处理室内，将处理液向基板(1)的表面进行喷涂。在处理室内，以设定的间隔设置有多数个旋转轴(11)。在旋转轴(11)上安装有多数个滚子(10)，且在一端安装有磁石(13)。在处理室外设置有电动机，且在电动机上连结有旋转轴(21)。在旋转轴(21)上，在隔着容器(2)而与各磁石(13)对向的位置上，安装有多数个磁石(23)。当利用电动机的驱动而使磁石(23)进行
专利类型：	发明专利
申请人：	日立高科技电子工程株式会社
发明人：	森口善弘;福田浩
专利状态：	有效
申请日期：	2006-01-25T00:00:00+0800
发布日期：	2019-01-01T00:00:00+0800
申请号：	CN200610002717.5
公开号：	CN1841695
代理机构：	北京中原华和知识产权代理有限责任公司
代理人：	寿宁;张华辉
分类号：	H01L21/677(2006.01)I
申请人地址：	日本东京
所属类别：	发明专利