详情

原文传递基板处理装置及处理方法

专利名称：	基板处理装置及处理方法
摘要：	本发明是一种基板处理装置及处理方法，其可抑制利用载体所致处理室环境的污染，且可连续进行稳定搬送及高品质的基板处理，其目的在于提供一种可对应今后不断进展的大型基板，并可对应各种基板尺寸具有高通用性的基板处理装置及处理方法，本发明的基板处理装置包括，加载互锁真空室，搬入装载有基板的载体；基板转移室，具有用来在与载体之间进行基板转移的转移机构；基板处理室，对于基板进行规定处理，其特征在于具备在上述加载互锁真空室及上述基板转移室之间可移动的第一载体，以及可移动在上述基板转移室及上述基板处理室之间的第二载体，并利用
专利类型：	发明专利
申请人：	安内华株式会社
发明人：	中河原均;井川诚一;畦原吉史
专利状态：	有效
申请日期：	2003-05-23T00:00:00+0800
发布日期：	2019-01-01T00:00:00+0800
申请号：	CN03809924.1
公开号：	CN1650416
代理机构：	北京纪凯知识产权代理有限公司
代理人：	程伟
分类号：	H01L21/68
申请人地址：	日本东京都
所属类别：	发明专利