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原文传递基板处理装置及处理方法

专利名称：	基板处理装置及处理方法
摘要：	提供一种基板处理装置，不仅减小设置空间，而且能够在相同场所进行基板的供给和送出。该基板处理装置具有：装置主体(1)；输送辊，设置在装置主体上，将基板以规定角度倾斜地输送；处理部(3)，对由输送辊输送的基板进行处理；上部输送部(4)，设置于装置主体的上部，将基板在水平状态下向与倾斜输送的输送方向相反的方向输送；倾斜交接单元(61)，设置在装置主体的至少一端，接受由上部输送部水平地输送的基板，使该基板下降的同时倾斜至规定角度，并交接给输送辊。
专利类型：	发明专利
申请人：	芝浦机械电子株式会社
发明人：	广濑治道;末吉秀树
专利状态：	有效
申请日期：	2006-07-25T00:00:00+0800
发布日期：	2019-01-01T00:00:00+0800
申请号：	CN200610107462.9
公开号：	CN1903683
代理机构：	永新专利商标代理有限公司
代理人：	陈英俊
分类号：	B65G49/06(2006.01)I
申请人地址：	日本神奈川县
所属类别：	发明专利