专利名称: |
用于控制衬底污染的方法和设备 |
摘要: |
用于在由聚合物形成的衬底容器中保持极其干燥的环境的组件、系统和方法,其提供清洗衬底容器的补充外部气体,以使经过容器的聚合物壁发生的水分和氧渗透最小化并控制容器的聚合物壁中夹带的水的脱附。 |
专利类型: |
发明专利 |
申请人: |
诚实公司 |
发明人: |
奥列格·P·基什科维奇;大卫·L·哈尔布迈尔;阿纳托利·格雷费尔 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
2008-12-18T00:00:00+0800 |
发布日期: |
2019-01-01T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN200880126995.9 |
公开号: |
CN101970315A |
代理机构: |
北京集佳知识产权代理有限公司 11227 |
代理人: |
顾晋伟;王春伟 |
分类号: |
B65D85/86(2006.01)I |
申请人地址: |
美国马萨诸塞州 |
主权项: |
一种用于保持其中容纳有晶片的晶片容器的外壳,所述外壳具有接收晶片容器的开口,并且具有两个吹扫系统,每个所述吹扫系统分别提供不同浓度或组成的吹扫气,一个所述吹扫系统用于所述晶片容器的内部,一个所述吹扫系统用于将吹扫气导向所述晶片容器的限定壁的外表面。 |
所属类别: |
发明专利 |