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原文传递 一种激光退火方法
专利名称: 一种激光退火方法
摘要: 本发明公开了一种激光退火方法,使用一激光退火装置对一基板上的半导体结构表面进行扫描,所述激光退火装置包括激光源和光学器具,包括:所述激光源提供一激光束;所述激光束投射在一镜面上,行进路线改变90°后通过所述光学器具进行会聚;使用该激光束对所述基板进行扫描;所述激光束以脉冲序列组的方式产生,所述脉冲序列组包括M组脉冲序列,每一组所述脉冲序列包括N个脉冲,其中,M和N为大于1的自然数。本发明可以减少非晶硅氧化可能,改善硅基片电性,并且由于进行激光退火的机台不再需要设置内部腔体,可以减少机台重量,机台保养上也变得较为容易。
专利类型: 发明专利
申请人: 上海和辉光电有限公司
发明人: 江昌翰;叶昱钧;钟尚骅
专利状态: 有效
申请日期: 2013-04-26T00:00:00+0800
发布日期: 2019-01-01T00:00:00+0800
申请号: CN201310151573.X
公开号: CN104124135A
代理机构: 上海申新律师事务所 31272
代理人: 竺路玲
分类号: H01L21/02(2006.01)I
申请人地址: 201506 上海市金山区金山工业区大道100号1幢二楼208室
主权项: 一种激光退火方法,使用一激光退火装置对一基板上的半导体结构表面进行扫描,所述激光退火装置包括激光源和光学器具,其特征在于,所述激光退火方法包括:所述激光源(2)提供一激光束(0);所述激光束投射在一镜面(4)上,行进路线改变90°后通过所述光学器具(3)进行会聚;使用该激光束(0)对所述基板(1)表面的非晶硅区域(11)进行快速扫描;其中,所述激光束(0)以脉冲序列组的方式产生,所述脉冲序列组包括M组脉冲序列,每一组所述脉冲序列包括N个脉冲,其中,M和N均为大于1的自然数。
所属类别: 发明专利
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