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原文传递激光退火的方法及装置

专利名称：	激光退火的方法及装置
摘要：	本发明公开了一种激光退火的方法及装置，通过增加一预处理设备，对基板进行预处理工艺，解决了现有技术中准分子激光退火工艺中的结晶率不稳定的问题，进而提高产品的良率，同时，利用第N基板在转化设备进行转化工艺的时间，通过机械手臂调取第N+1基板至预处理设备，提高了机械手臂的利用率，并且通过增加一缓冲设备进行缓冲处理，使得基板的传送路径和取回路径不同，从而克服了现有技术中由于机械手臂的传送路径与返回路径相同而造成的生产效率低下的问题，在提高生产效率的同时，降低了制造成本。
专利类型：	发明专利
申请人：	上海和辉光电有限公司
发明人：	许修齐;叶昱均
专利状态：	有效
申请日期：	2013-06-08T00:00:00+0800
发布日期：	2019-01-01T00:00:00+0800
申请号：	CN201310229359.1
公开号：	CN103346065A
代理机构：	上海申新律师事务所 31272
代理人：	竺路玲
分类号：	H01L21/02(2006.01)I
申请人地址：	201506 上海市金山区金山工业区大道100号1幢二楼208室
主权项：	一种激光退火的方法，同时应用于多个具有非晶硅薄膜的基板上，其特征在于，包括：于一激光退火装置中，对第N基板进行预处理工艺后，继续对该第N基板进行转化工艺，并对第N+1基板进行所述预处理工艺；对完成所述转化工艺的第N基板进行缓冲处理的同时，对第N+1基板进行所述转化工艺，并对第N+2基板进行所述预处理工艺；其中，N为正整数。
所属类别：	发明专利