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用于测量平板显示器的光纤激光退火多晶硅薄膜的形态特性的过程和系统
| 专利名称： | 用于测量平板显示器的光纤激光退火多晶硅薄膜的形态特性的过程和系统 |
| 摘要： | 一种测量具有晶体结构的激光退火薄膜的形态特性的方法，所述晶体结构由至少一行并排定位的晶粒限定，每个晶粒具有长度(Lg)和宽度(Wg)，所述长度对于所述晶粒一致的，其中，行的长度(Lr)对应于晶粒的累积宽度Wg并产生各个衍射级次的衍射，方法包括：产生单色光；修整单色光以在0°(入射)和掠射角之间的范围内变化的角度进入到激光退火薄膜的表面上；测量从表面衍射的单色光的性质的变化，从而测量激光退火薄膜沿着一行的长度(Lr)的形态特性。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 国家地区组织代码： | 美国;US |
| 申请人： | IPG光子公司 |
| 发明人： | 佛朗瑞恩·胡博;亚历山大·里马诺夫;迈克尔·冯达尔曾;丹·皮尔洛夫;爱德华·赤帝尔科沃斯基;约翰·希克斯 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请号： | CN201780028544.0 |
| 公开号： | CN109154562A |
| 代理机构： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
| 代理人： | 倪斌 |
| 分类号： | G01N21/41(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N21 |
| 申请人地址： | 美国马萨诸塞州 |
| 主权项： | 1.一种测量具有晶体结构的激光退火薄膜的形态特性的方法，所述晶体结构由至少一行并排定位的晶粒限定，每个晶粒具有度(Lg)和宽度(Wg)，所述长度对于是所述晶粒一致的，其中，所述行的长度(Lr)对应于所述晶粒的累积宽度Wg并产生具有各个级次的衍射，所述方法包括：产生单色光；修整所述单色光以在0o(入射)和掠射角之间的范围内变化的角度进入到所述激光退火薄膜的表面上；以及测量从所述表面衍射的所述单色光的性质的变化，从而测量所述激光退火薄膜沿着所述一行的长度(Lr)的形态特性。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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