专利名称: |
一种计算机硬盘的化学机械抛光液 |
摘要: |
本发明涉及计算机领域,具体涉及一种可有效应用于计算机NiP硬盘的计算机硬盘化学机械抛光液。计算机硬盘化学机械抛光液,为含有氧化剂、研磨粒子、盐类添加剂以及pH调节剂的水溶液;所述盐类添加剂通式为X-R-Y,其中X为阳离子,Y为阴离子,R为直链烃基或其衍生物。通过本发明提供的化学机械抛光浆液,硬盘的抛光速率达到了90nm/min,表面粗糙度较低,硬盘的表面质量和加工效率得到了有效的提高。 |
专利类型: |
发明专利 |
申请人: |
上海新安纳电子科技有限公司;中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
发明人: |
宋晗;王良咏;刘卫丽;宋志棠 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
2012-12-28T00:00:00+0800 |
发布日期: |
2019-01-01T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201210587505.3 |
公开号: |
CN103897604A |
代理机构: |
上海光华专利事务所 31219 |
代理人: |
许亦琳;余明伟 |
分类号: |
C09G1/02(2006.01)I |
申请人地址: |
201506 上海市金山区金山工业区天工路285弄2幢 |
主权项: |
一种计算机硬盘化学机械抛光液,为含有氧化剂、研磨粒子、盐类添加剂以及pH调节剂的水溶液;所述盐类添加剂通式为X?R?Y,其中X为阳离子,Y为阴离子,R为直链烃基或其衍生物。 |
所属类别: |
发明专利 |