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原文传递一种不锈钢衬底的精密抛光方法

专利名称：	一种不锈钢衬底的精密抛光方法
摘要：	本发明涉及一种不锈钢衬底的精密抛光方法，包括：按比例配制抛光液；将待抛光的不锈钢衬底5固定于抛光头4底部，加压装置7将抛光头4作用于抛光台6上，并且抛光台6、抛光头4在转动装置带动下旋转，同时抛光液2被输送至抛光垫1表面，使抛光液2、抛光垫1及不锈钢衬底5三者充分接触；将不锈钢衬底5表面进行化学机械抛光至表面完全成镜面，立即清洗即可。经本发明抛光后的不锈钢衬底，其表面平整光滑，均方根粗糙度仅0.7纳米，克服了其他抛光方法所无法满足的平坦度及粗糙度的要求。
专利类型：	发明专利
申请人：	中国科学院上海微系统与信息技术研究所
发明人：	胡晓凯;宋志棠;刘卫丽
专利状态：	有效
申请日期：	2009-08-25T00:00:00+0800
发布日期：	2019-01-01T00:00:00+0800
申请号：	CN200910194558.7
公开号：	CN101642893
代理机构：	上海泰能知识产权代理事务所
代理人：	黄志达;宋缨
分类号：	B24B29/02(2006.01)I
申请人地址：	200050上海市长宁区长宁路865号
主权项：	1.一种不锈钢衬底的精密抛光方法，包括： (1)抛光液的配制； (2)将待抛光的不锈钢衬底5固定于抛光头4底部，加压装置7将抛光头4作用于抛光台6上，并且抛光台6、抛光头4在转动装置带动下旋转，同时抛光液2被输送至抛光垫1表面，使抛光液2、抛光垫1及不锈钢衬底5三者充分接触；抛光工艺参数：抛光台6转速40～200转/分钟；抛光头4转速40～200转/分钟，并且抛光头4与抛光台6转速大致相等；不锈钢衬底5作用于抛光垫1表面的下压力为1psi～ 10psi(psi为压强单位：磅/平方英寸)；抛光液2供给流量为20～200毫升/分钟；抛光液2温度为室温～沸点温度； (3)将不锈钢衬底5表面化学机械抛光10分钟～60分钟，当不锈钢表面完全成镜面时抛光进程即可终止，随后立即彻底清洗不锈钢抛光片，即可。
所属类别：	发明专利