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原文传递一种CVD成膜装置

专利名称：	一种CVD成膜装置
摘要：	本实用新型公开了一种CVD成膜装置，包括一腔室，在腔室顶部设置有上部电极，腔室下部设置有下部电极，下部电极与升降杆连接，玻璃基板放置在下部电极上，在玻璃基板的侧边设置用以限定玻璃基板位置的限位件，在所述腔室上设置有以便于观察玻璃基板在下部电极相对位置的透明观察窗口。本实用新型采用在腔室上设置透明观察窗口，以便于观察玻璃基板在下部电极相对位置的技术解决方案，实时观察确认膜边距，便于及时调整玻璃的位置来改善膜厚均匀性。
专利类型：	实用新型专利
申请人：	上海和辉光电有限公司
发明人：	吕世伟
专利状态：	有效
申请日期：	2015-06-25T00:00:00+0800
发布日期：	2019-01-01T00:00:00+0800
申请号：	CN201520441298.X
公开号：	CN204779797U
代理机构：	上海申浩律师事务所 31280
代理人：	乐卫国
分类号：	C23C16/44(2006.01)I
申请人地址：	201506 上海市金山区九工路1568号
主权项：	一种CVD成膜装置，包括一腔室，在腔室顶部设置有上部电极，腔室下部设置有下部电极，下部电极与升降杆连接，玻璃基板放置在下部电极上，在玻璃基板的侧边设置用以限定玻璃基板位置的限位件，其特征在于，在所述腔室上设置有以便于观察玻璃基板在下部电极相对位置的透明观察窗口。
所属类别：	实用新型