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原文传递磁控溅射镀膜装置

专利名称：	磁控溅射镀膜装置
摘要：	本实用新型公开了一种磁控溅射镀膜装置，它包括磁铁、连动磁铁运动的丝杆和带动丝杆运动的电机，所述磁铁为分段式结构,包括固定段和可调节段，其中，可调节段位于固定段的两端，可调节段分别与丝杆连接，所述丝杆分别与电机连接；上述结构组成一个磁控溅射镀膜单元，所述磁控溅射镀膜装置由n个磁控溅射镀膜单元组成。采用控制分段式的磁铁，使得每个小磁铁都可以独立控制，可以按照需求作灵活的调整。所以可以使得产品的膜厚均一性得到大大提升，从而良率也得到提升膜厚均一性越好，代表磁场强度也比较均匀，使得材料的消耗也比较均匀，不会因为某一部分的磁场过强，而使得整体的材料报废，也大大的节约了成本。本实用新型适用于磁控溅射镀膜。
专利类型：	实用新型专利
申请人：	上海和辉光电有限公司
发明人：	王云靖
专利状态：	有效
申请日期：	2015-06-18T00:00:00+0800
发布日期：	2019-01-01T00:00:00+0800
申请号：	CN201520423159.4
公开号：	CN204779786U
代理机构：	上海申浩律师事务所 31280
代理人：	乐卫国
分类号：	C23C14/35(2006.01)I
申请人地址：	201506 上海市金山区九工路1568号
主权项：	?一种磁控溅射镀膜装置，它包括磁铁（3）、连动磁铁（3）运动的丝杆（12）和带动丝杆（12）运动的电机（13），其特征在于：所述磁铁（3）为分段式结构,包括固定段和可调节段，其中，可调节段位于固定段的两端，可调节段分别与丝杆（12）连接，所述丝杆分别与电机（13）连接；上述结构组成一个磁控溅射镀膜单元，所述磁控溅射镀膜装置由n个磁控溅射镀膜单元组成。
所属类别：	实用新型