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原文传递湿法刻蚀器件和湿法刻蚀机

专利名称：	湿法刻蚀器件和湿法刻蚀机
摘要：	本实用新型涉及湿法刻蚀技术领域，尤其涉及一种湿法刻蚀器件和湿法刻蚀机，本实用新型技术方案在基于传统湿法刻蚀器件结构的基础上，于上压滚轴上开设若干通孔，当对一产品进行湿法刻蚀时，将该产品放置存储有刻蚀液的刻蚀凹槽中，通过下压滚轴对其传送，同时通过位于下压滚轴之上的上压滚轴对其进行微压，进而完成刻蚀工艺，在刻蚀过程中因所开设的若干通孔方便于刻蚀液的流动，进而通过提高在进行湿法刻蚀工艺中刻蚀液流场的均匀性，以提高产品进行湿法刻蚀工艺的刻蚀速率的均匀度，一定程度上减少了产品的关键尺寸失真缺陷，提高了产品良率以及降低了生产成本。
专利类型：	实用新型专利
申请人：	上海和辉光电有限公司
发明人：	刘峻承;涂智超;黄于维
专利状态：	有效
申请日期：	2015-04-23T00:00:00+0800
发布日期：	2019-01-01T00:00:00+0800
申请号：	CN201520257769.1
公开号：	CN204596768U
代理机构：	上海申新律师事务所 31272
代理人：	吴俊
分类号：	H01L21/67(2006.01)I
申请人地址：	201506 上海市金山区金山工业区大道100号1幢二楼208室
主权项：	一种湿法刻蚀器件，应用于湿法刻蚀工艺中，其特征在于，所述器件包括：上压滚轴，所述上压滚轴上开设有通孔，以用于提高所述湿法刻蚀工艺中刻蚀液流场的均匀度。
所属类别：	实用新型