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原文传递红外光学材料杂质测试方法

专利名称：	红外光学材料杂质测试方法
摘要：	本发明涉及红外光学材料杂质测试方法，涉及光学材料杂质测试技术领域。本发明利用红外照相系统的景深特性和场景成像原理，对可见光不透明的红外材料中存在的杂质情况进行红外照相系统景深范围的一次成像获取红外光学材料内部全部杂质状况，该方法对可见光不透明的红外材料内部的杂质进行测试的设备要求简单，不需要承载样品的二维自动移动的精密平台和承载显微物镜的精密一维自动移动平台，降低了测试设备的成本；本测试方法是一次照相真实成像，无重叠成像结果的处理，反映的测试结果真实；本测试方法一次拍照就完成，测试快捷、时间短。
专利类型：	发明专利
国家地区组织代码：	北京;11
申请人：	中国兵器工业标准化研究所
发明人：	麦绿波
专利状态：	有效
发布日期：	2019-01-01T00:00:00+0800
申请号：	CN201811138357.0
公开号：	CN109001141A
代理机构：	中国兵器工业集团公司专利中心 11011
代理人：	王雪芬
分类号：	G01N21/35(2014.01)I;G;G01;G01N;G01N21;G01N21/35
申请人地址：	100089 北京市海淀区车道沟10号院
主权项：	1.红外光学材料杂质测试方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、建立一个红外光学材料景深照相杂质测试系统，在光路方向依次包括红外漫射光源系统(1)、被测红外光学材料样品(2)、红外照相物镜(3)和红外探测器(4)；其中，被测红外光学材料样品(2)放置在样品放置台(6)上；所述红外漫射光源系统(1)由红外光源和透红外光谱的漫射屏(101)组成，所述红外光源为全谱红外光源(102)或者是单色红外光源(103)；S2、确定测试系统中所述被测红外光学材料样品(2)的最大厚度，以作为红外照相物镜(3)的物方景深设计依据；S3、根据所述被测红外光学材料样品(2)需要统计的最小杂质尺寸，确定红外照相物镜(3)的物方分辨力；S4、根据预定被测红外光学材料样品(2)的透明波段，选择红外探测器的波段响应类型，即确定红外探测器(4)的类型；S5、建立所述红外探测器(4)的最大边长尺寸与被测红外光学材料样品(2)的最大口径的最大测试范围的匹配关系；S6、根据步骤S3确定的红外照相物镜(3)的物方分辨力，确定其像方分辨力间隔σ；S7、根据步骤S6确定的红外照相物镜(3)的像方分辨力间隔σ，计算红外照相物镜(3)允许的最大F数；S8、选择所述红外探测器(4)的探测元(601)的尺寸d，d≦σ，使红外探测器(4)能满足对红外照相物镜(3)的像方分辨力间隔σ的分辨；S9、用步骤S7得到的红外照相物镜(3)的F数确定红外照相物镜(3)像点的衍射斑，即像点弥散斑(602)的尺寸；S10、设置所述红外照相物镜(3)备选的系列焦距值；S11、根据S5计算的红外照相物镜(3)的放大倍数、步骤S10设置的系列焦距值，计算红外照相物镜(3)的系列物距；再根据步骤S7确定的允许的F数、步骤S10设置的系列焦距值、系列焦距对应的系列物距、允许的离焦弥散圆直径δ，计算红外照相物镜(3)的系列焦距及物距对应的系列物方前景深及物方后景深；然后根据测试系统允许的体积尺寸，按照红外照相物镜(3)对期望测试的样品厚度范围的红外光学材料杂质能成像到红外探测器(4)上的要求，选择计算达到预设要求的系列焦距值f’的红外照相物镜(3)的物方景深ΔL、成像的物距L和像距L’，所述物方景深ΔL为物方前景深与物方后景深之和；步骤S12、按照如下原则布置测试系统：不让被测红外光学材料样品(2)的厚度中间面(801)与物面(802)重合，而使被测红外光学材料样品(2)的厚度中间面(801)在物面(802)左侧，形成物方前景深(804)和物方后景深(805)有效占用样品厚度，所述物面(802)为景深分界面，也即红外探测器(4)的像感光平面(803)对应的物平面；步骤S13、对红外探测器(4)接收的被测红外光学材料样品(2)内的杂质图像，对所述杂质图像进行尺寸测量、数量计数，并给出杂质规范评定的测试结果。
所属类别：	发明专利