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一种易氧化材料的透射样品制备及二维材料加固方法
| 专利名称： | 一种易氧化材料的透射样品制备及二维材料加固方法 |
| 摘要： | 本发明公开了一种易氧化材料的透射样品制备及二维材料加固方法；包括：S1、真空环境下，在样品的目标位置诱导沉积Pt保护层；S2、对样品进行减薄切割分离，获得留有目标位置的样品；S3、在样品上表面和下表面沉积诱导得到10nm～20nm的SiO2薄膜。本发明将样品密封在SiO2薄膜中，达到隔绝外界空气的作用，减缓样品氧化。采用电子束诱导沉积，电子束较离子束能量低，诱导沉积过程中不会损伤样品，起到了保护样品的作用。上表面和下表面各诱导沉积10nm～20nm SiO2薄膜，对样品的透射测试及其他光学测试均没有明显影响；二维材料表面沉积10nm～20nm SiO2薄膜，达到加固二维材料，提高了物理硬度。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 国家地区组织代码： | 天津;12 |
| 申请人： | 华慧芯科技（天津）有限公司 |
| 发明人： | 曲迪;白国人;陈墨;姬静远;宋学颍 |
| 专利状态： | 有效 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN201810745568.4 |
| 公开号： | CN109001018A |
| 代理机构： | 天津市鼎和专利商标代理有限公司 12101 |
| 代理人： | 蒙建军 |
| 分类号： | G01N1/40(2006.01)I;G01N1/28(2006.01)I;G01N1/34(2006.01)I;G01N23/2258(2018.01)I;G;G01;G01N;G01N1;G01N23;G01N1/40;G01N1/28;G01N1/34;G01N23/2258 |
| 申请人地址： | 300467 天津市滨海新区生态城中天大道1620号生态科技园启发大厦12层101 |
| 主权项： | 1.一种易氧化材料的透射样品制备及二维材料加固方法，其特征在于，包括以下步骤：S1、真空环境下，在样品的目标位置诱导沉积Pt保护层；S2、对样品进行减薄切割分离，获得留有目标位置的样品；S3、在样品上表面和下表面沉积诱导得到10nm～20nm的SiO2薄膜。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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