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原文传递陶瓷生片制造用脱模膜

专利名称：	陶瓷生片制造用脱模膜
摘要：	提供：即使将陶瓷生片薄膜化的情况下也能兼顾良好的卷取性和防止针孔、部分的厚度不均等的优异的陶瓷生片制造用脱模膜。一种陶瓷生片制造用脱模膜，其以实质上不含有颗粒的聚酯薄膜为基材，在前述基材的一个表面上具有脱模涂布层、且在另一个表面上具有含有颗粒的易滑涂布层，易滑涂布层的区域表面平均粗糙度(Sa)为1nm以上且25nm以下，最大突起高度(P)为60nm以上且500nm以下，且粗糙度曲线要素的平均长度(RSm)为10μm以下。
专利类型：	发明专利
国家地区组织代码：	日本;JP
申请人：	东洋纺株式会社
发明人：	柴田悠介;吉野贤二;堀川谅
专利状态：	有效
发布日期：	2019-01-01T00:00:00+0800
申请号：	CN201780028362.3
公开号：	CN109070383A
代理机构：	北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277
代理人：	刘新宇;李茂家
分类号：	B28B1/30(2006.01)I;B32B27/00(2006.01)I;B32B27/36(2006.01)I;C09D201/00(2006.01)I;B;C;B28;B32;C09;B28B;B32B;C09D;B28B1;B32B27;C09D201;B28B1/30;B32B27/00;B32B27/36;C09D201/00
申请人地址：	日本大阪府
主权项：	1.一种陶瓷生片制造用脱模膜，其特征在于，以实质上不含有颗粒的聚酯薄膜为基材，在所述基材的一个表面上具有脱模涂布层、且在另一个表面上具有含有颗粒的易滑涂布层，易滑涂布层的区域表面平均粗糙度(Sa)为1nm以上且25nm以下，最大突起高度(P)为60nm以上且500nm以下，且粗糙度曲线要素的平均长度(RSm)为10μm以下。
所属类别：	发明专利