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原文传递使用拟合的X射线谱的分析

专利名称：	使用拟合的X射线谱的分析
摘要：	本申请涉及使用拟合的X射线谱的分析。一种仪器中的X射线谱的分析的方法，该方法使用至少一个测量的参考谱与至少一个计算函数的组合来拟合测量的样本谱。该方法包括测量来自至少一个参考样本的参考谱作为对于多个能量仓i的多个测量值R_pr(i)；选择由j索引的对应于多个仓i的n_pr个感兴趣区域，并记录来自测量的参考谱的相应的多个仓的曲线其中n_pr是正整数；测量样本谱作为对于多个能量仓i的多个强度值R_spe(i)；以及将所测量的样本谱R_spe(i)拟合到拟合函数，该拟合函数包括至少一个相应感兴趣区域中的至少一个曲线以及至少一个计算函数
专利类型：	发明专利
国家地区组织代码：	荷兰;NL
申请人：	马尔文帕纳科公司
发明人：	查拉兰波斯·扎尔卡达斯
专利状态：	有效
申请号：	CN201810767176.8
公开号：	CN109254024A
代理机构：	北京安信方达知识产权代理有限公司 11262
代理人：	张瑞;杨明钊
分类号：	G01N23/223(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N23
申请人地址：	荷兰阿尔默洛
主权项：	1.一种在仪器中的X射线谱的分析的方法，包括：测量来自至少一个参考样本的参考谱作为对于多个能量仓i的多个测量值Rpr(i)；选择由j索引的对应于多个仓i的n_pr个感兴趣区域，并记录来自所测量的参考谱的相应的多个仓的曲线其中n_pr是正整数；测量样本谱作为对于多个能量仓i的多个强度值Rspe(i)；将所测量的样本谱Rspe(i)拟合到拟合函数，其中：所述拟合函数包括项和项存在整数npr计算函数和相应的线组；表示作为线组j的响应值的第j个计算函数；存在npr个曲线，各自在相应感兴趣区域中；表示第j个曲线；是对于第j个曲线的曲线修改函数；和is是对于所述曲线的偏移参数。
所属类别：	发明专利