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一种利用多点拟合确定连续X射线背景强度的方法
| 专利名称： | 一种利用多点拟合确定连续X射线背景强度的方法 |
| 摘要： | 本发明提供一种利用多点拟合确定连续X射线背景强度的方法，包括以下步骤：利用电子探针通过波谱扫描得到待测元素的波谱扫描图；在所述待测元素的波谱扫描图的峰的左边的连续X射线处选取n1个波谱位置，右边的连续X射线处选取n2个波谱位置；利用电子探针通过定量分析分别测试选取的每一个波谱位置处的连续X射线的强度；以选取的波谱位置为x轴，以测试的每一个波谱位置处的连续X射线的强度为y轴，进行曲线拟合，得到待测元素的背景拟合方程；将待测元素的峰所处的波谱位置代入背景拟合方程，即得到待测元素的背景强度值。本发明提供的方法有效消除了背景强度对微量元素的含量的测试结果的影响。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 国家地区组织代码： | 湖北;42 |
| 申请人： | 中国地质大学（武汉） |
| 发明人： | 杨水源;崔继强;蒋少涌;张若曦 |
| 专利状态： | 有效 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN201810340083.7 |
| 公开号： | CN108717065A |
| 代理机构： | 武汉知产时代知识产权代理有限公司 42238 |
| 代理人： | 龚春来 |
| 分类号： | G01N23/2252(2018.01)I;G;G01;G01N;G01N23;G01N23/2252 |
| 申请人地址： | 430000 湖北省武汉市洪山区鲁磨路388号 |
| 主权项： | 1.一种利用多点拟合确定连续X射线背景强度的方法，其特征在于，包括以下步骤：S1，利用电子探针通过波谱扫描得到待测元素的波谱扫描图；S2，在所述待测元素的波谱扫描图的峰的左边的连续X射线处选取n1个波谱位置，右边的连续X射线处选取n2个波谱位置；S3，利用电子探针通过定量分析分别测试选取的每一个波谱位置处的连续X射线的强度；S4，以步骤S2选取的波谱位置为x轴，以步骤S3测试的每一个波谱位置处的连续X射线的强度为y轴，进行曲线拟合，得到待测元素的背景拟合方程；S5，将待测元素的峰所处的波谱位置代入背景拟合方程，即得到待测元素的背景强度值,利用得到的待测元素的背景强度值和待测元素的峰强度值能够准确的计算待测元素的含量，消除背景强度对微量元素的含量的测试结果的影响。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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