专利名称: |
一种电致发光器件的膜层分析方法 |
摘要: |
本发明公开了一种电致发光器件的膜层分析方法,其中,电致发光器件包括:依次层叠的阳极层、电致发光材料层、以及含银阴极层。该膜层分析方法包括:提供具有离子溅射源和气体团簇离子源的质谱仪;利用离子溅射源从电致发光器件上剥离含银阴极层,得到暴露有电致发光材料层的分析样品;利用气体团簇离子源对暴露的电致发光材料层进行分析。通过离子溅射源对含银阴极层进行溅射剥离,其剥离过程稳定可控,能够有效且彻底地去除含银阴极层,避免了对电致发光材料层进行剥离。采用气体团簇离子源对暴露的电致发光材料层进行分析,不仅能够获得电致发光材料层的各膜层成分及位置,且不会对电致发光材料层造成损伤。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
北京;11 |
申请人: |
京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
发明人: |
刘莹;彭于航;杜聪聪;范磊;范春芳;吴启;薛孝忠;秦浩然 |
专利状态: |
有效 |
申请号: |
CN201811308434.2 |
公开号: |
CN109374724A |
代理机构: |
北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 |
代理人: |
杨广宇 |
分类号: |
G01N27/62(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N27 |
申请人地址: |
100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 |
主权项: |
1.一种电致发光器件的膜层分析方法,所述电致发光器件包括:依次层叠的阳极层、电致发光材料层、以及含银阴极层,其特征在于,所述膜层分析方法包括:提供具有离子溅射源和气体团簇离子源的质谱仪;利用所述离子溅射源从所述电致发光器件上剥离所述含银阴极层,得到暴露有电致发光材料层的分析样品;利用所述气体团簇离子源对暴露的所述电致发光材料层进行分析。 |
所属类别: |
发明专利 |