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一种电致发光器件的膜层分析方法
| 专利名称： | 一种电致发光器件的膜层分析方法 |
| 摘要： | 本发明公开了一种电致发光器件的膜层分析方法，其中，电致发光器件包括：依次层叠的阳极层、电致发光材料层、以及含银阴极层。该膜层分析方法包括：提供具有离子溅射源和气体团簇离子源的质谱仪；利用离子溅射源从电致发光器件上剥离含银阴极层，得到暴露有电致发光材料层的分析样品；利用气体团簇离子源对暴露的电致发光材料层进行分析。通过离子溅射源对含银阴极层进行溅射剥离，其剥离过程稳定可控，能够有效且彻底地去除含银阴极层，避免了对电致发光材料层进行剥离。采用气体团簇离子源对暴露的电致发光材料层进行分析，不仅能够获得电致发光材料层的各膜层成分及位置，且不会对电致发光材料层造成损伤。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 国家地区组织代码： | 北京;11 |
| 申请人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 发明人： | 刘莹;彭于航;杜聪聪;范磊;范春芳;吴启;薛孝忠;秦浩然 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请号： | CN201811308434.2 |
| 公开号： | CN109374724A |
| 代理机构： | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 |
| 代理人： | 杨广宇 |
| 分类号： | G01N27/62(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N27 |
| 申请人地址： | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 |
| 主权项： | 1.一种电致发光器件的膜层分析方法，所述电致发光器件包括：依次层叠的阳极层、电致发光材料层、以及含银阴极层，其特征在于，所述膜层分析方法包括：提供具有离子溅射源和气体团簇离子源的质谱仪；利用所述离子溅射源从所述电致发光器件上剥离所述含银阴极层，得到暴露有电致发光材料层的分析样品；利用所述气体团簇离子源对暴露的所述电致发光材料层进行分析。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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