专利名称: |
半导体芯片的失效分析方法 |
摘要: |
本发明公开了一种半导体芯片的失效分析方法,包括:切割半导体芯片制备具有横截面的样品;对样品的衡截面进行研磨抛光、水洗并干燥样品;配置化学染色液;将抛光好的样品放入所述化学染色液中进行染色处理;对染色处理后的样品进行清洗并干燥样品;将样品放置在扫描电镜中进行检查并进行显微摄影,进行失效分析。本发明在对样品进行研磨抛光之后,还采用化学染色液对样品表面进行化学处理,最后才使用扫描电子显微镜对掺杂物分布和结面轮廓进行二维描述,并且能够以较高的空间分辨率精确描绘掺杂剖面,从而可以对样品的失效节点进行详细而准确的分析。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
江苏;32 |
申请人: |
胜科纳米(苏州)有限公司 |
发明人: |
华佑南;李兵海;李晓旻 |
专利状态: |
有效 |
申请号: |
CN201811067761.3 |
公开号: |
CN109444193A |
代理机构: |
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 |
代理人: |
朱琳 |
分类号: |
G01N23/2202(2018.01)I;G;G01;G01N;G01N23 |
申请人地址: |
215123 江苏省苏州市工业园区金鸡湖大道99号苏州纳米城西北区09栋507 |
主权项: |
1.一种半导体芯片的失效分析方法,其特征在于,包括:切割半导体芯片制备具有横截面的样品;对样品的衡截面进行研磨抛光、水洗并干燥样品;配置化学染色液;将抛光好的样品放入所述化学染色液中进行染色处理;对染色处理后的样品进行清洗并干燥样品;将样品放置在扫描电镜中进行检查并进行显微摄影,进行失效分析。 |
所属类别: |
发明专利 |