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一种多能谱X射线成像散射估计与校正方法
| 专利名称： | 一种多能谱X射线成像散射估计与校正方法 |
| 摘要： | 本发明公开了一种多能谱X射线成像散射估计与校正方法，该方法运用特殊的射线过滤板和能谱探测器进行X射线投影测量，得到投影矩阵P1；根据投影矩阵P1和射线过滤板的几何结构计算校正投影矩阵P2，将投影矩阵P2减去投影矩阵P1得到投影差值矩阵ΔP；根据射线过滤板的几何结构计算射线衰减差异矩阵DF；利用能谱探测器的能量响应矩阵RE以及射线衰减差异矩阵DF计算散射转换矩阵T；根据投影矩阵P1、投影差值矩阵ΔP以及射线衰减差异矩阵DF来估计散射矩阵S；最后根据散射估计矩阵S对投影矩阵进行校正得到散射校正后的投影矩阵P。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 国家地区组织代码： | 江苏;32 |
| 申请人： | 南京航空航天大学 |
| 发明人： | 周正东 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请号： | CN201811080446.4 |
| 公开号： | CN109540930A |
| 代理机构： | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 |
| 代理人： | 刘传玉 |
| 分类号： | G01N23/04(2018.01)I;G;G01;G01N;G01N23 |
| 申请人地址： | 210016 江苏省南京市秦淮区御道街29号 |
| 主权项： | 1.一种多能谱X射线成像散射估计与校正方法，其特征在于，包含以下具体步骤：步骤1)，通过模拟仿真计算或实验测量能谱探测器对不同能量入射X射线的响应，得到探测器能量响应矩阵RE；步骤2)，采用射线过滤板F对测量目标进行投影测量，得到投影矩阵P1；所述射线过滤板F包含平板型X射线过滤板以及若干突起，其中，所述若干突起均匀设置在所述平板型X射线过滤板上，且所述若干突起占据的面积除以平板型X射线过滤板的面积小于预设的阈值；步骤3)，根据射线过滤板F的几何形状对投影P1进行校正，得到校正投影矩阵P2；步骤4)，根据射线过滤板F与平板型射线过滤板的几何形状差异，计算不同能量下射线衰减变化值，得到射线衰减差异矩阵DF；步骤5)，将投影矩阵P2减去投影矩阵P1得到投影差值矩阵ΔP；步骤6)，根据探测器能量响应矩阵RE和射线衰减差异矩阵DF，计算散射变换矩阵T；步骤7)，计算散射初始估计矩阵S1，对S1进行插值处理得到校正散射估计矩阵S；步骤8)，将投影矩阵P2减去散射估计矩阵S得到散射校正后的投影矩阵P。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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