原文传递
基于PL干涉现象的激光改性测量薄膜折射率和厚度的方法
| 专利名称： | 基于PL干涉现象的激光改性测量薄膜折射率和厚度的方法 |
| 摘要： | 本发明涉及一种基于PL干涉现象的激光改性测量薄膜折射率和厚度的方法，属于激光改性及测量领域。该方法基于飞秒激光微纳加工系统，包括以下步骤：通过将购买的GaN基LED外延片样品放到已有的六自由度平移台上，激光通过平凸聚焦在样品表面。激光的能量可以通过衰减片调节，重复频率，扫描速度，扫描间隔可以通过已有的程序进行调节。测量加工后样品的PL谱线，对谱线进行后续分析计算，可以得出样品的折射率和厚度。对比现有技术，本发明提供的方法通过测量飞秒激光改性后样品的光致发光谱线，分析得到的谱线进而可以计算样品折射率和厚度。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 国家地区组织代码： | 北京;11 |
| 申请人： | 北京理工大学 |
| 发明人： | 姜澜;孙靖雅;谢钰铎 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请日期： | 2019-05-08T00:00:00+0800 |
| 发布日期： | 2019-09-03T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN201910379230.6 |
| 公开号： | CN110196240A |
| 代理机构： | 北京理工正阳知识产权代理事务所(普通合伙) |
| 代理人： | 邬晓楠 |
| 分类号： | G01N21/45(2006.01);G;G01;G01N;G01N21 |
| 申请人地址： | 100081 北京市海淀区中关村南大街5号 |
| 主权项： | 1.基于PL干涉现象的激光改性测量薄膜折射率和厚度的方法，其特征在于：包括以下步骤： 步骤一、采用飞秒激光对清洗干净的薄膜材料进行表面改性；所述激光能量为40-80mJ/cm2；清洗干净后得到样品； 步骤二、将步骤一得到的样品放入光致发光光谱系统中，测量所述样品表面的PL谱线； 步骤三、通过下述公式对步骤二测量过程中产生的干涉现象进行计算分析，能够同时得出所加工样品的折射率和厚度； 所述公式为 厚度L计算如公式(1)所示： 其中n(λ)是柯西色散公式，λpeak是第i个波峰处所对应的波长； 其中A0，A1，A2是柯西色散公式的系数；λ是PL振荡曲线波峰处对应的波长； 通过厚度计算样品的折射率n，如公式(3)所示： Δλ是两个波峰之间的间隔；λ1是He-Ne激光激发的电子-空穴对复合后被采集到的波峰值，是柯西色散公式对λ求导。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
检索历史
应用推荐
