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原文传递透射电子显微镜样品制备方法

专利名称：	透射电子显微镜样品制备方法
摘要：	本发明提供了一种透射电子显微镜样品制备方法，包含样品预处理、样品研磨抛光、研磨减薄、样品脱模和样品清洗，主要采用研磨机的机械方式对样品进行减薄、抛光，再通过0.5kV或者更低电压的离子束简单清洗，即可制备获得用于透射电子显微镜分析的样品。该方法在使用研磨机对样品进行研磨减薄的过程中，在样品座上设置一个具有较小角度斜角的楔形模板，并将样品置于楔形模板的倾斜面上，使样品研磨减薄时也形成一个具有较小角度的斜角，其厚度沿研磨盘的径向方向逐渐减薄。则在制备过程中，只要控制样品厚度较厚一端的厚度，样品厚度较薄部分的厚度就处于可供透射电子显微镜分析的厚度范围内，操作简单，降低样品制备的难度，提高样品制备的效率。
专利类型：	发明专利
国家地区组织代码：	广东;44
申请人：	南方科技大学
发明人：	何东升;何佳清;邓云生
专利状态：	有效
申请日期：	2019-04-25T00:00:00+0800
发布日期：	2019-08-27T00:00:00+0800
申请号：	CN201910339442.1
公开号：	CN110174424A
代理机构：	深圳中一专利商标事务所
代理人：	褚淑杰
分类号：	G01N23/2005(2018.01);G;G01;G01N;G01N23
申请人地址：	518055 广东省深圳市南山区西丽学苑大道1088号
主权项：	1.一种透射电子显微镜样品制备方法，其特征在于，该方法包括用于研磨透射电子显微镜样品的研磨机，所述研磨机包括用于放置样品的样品座和用于对置于所述样品座上的样品进行表面研磨减薄的研磨盘；该方法包含如下步骤：样品预处理：将所述样品切割成预定尺寸的样品；研磨抛光：将所述样品置于所述样品座上，驱动所述研磨盘对所述样品的第一面进行研磨处理，再将沾附有抛光剂的绒布置于所述研磨盘上，驱动所述研磨盘对所述样品的第一面进行表面抛光处理，使所述样品的第一面形成第一抛光面；研磨减薄：将楔形模板置于所述样品座上，使用粘接剂将所述样品的第一抛光面粘贴于所述楔形模板的倾斜面上，以使所述样品的第二面与所述研磨盘的研磨面之间的夹角为锐角；驱动所述研磨盘对所述样品的第二面进行研磨，使所述样品的厚度减薄并形成具有第一抛光面及一个研磨斜面的楔形样品；利用沾附有抛光剂的绒布，对所述楔形样品的研磨斜面进行表面抛光处理，使所述楔形样品的研磨斜面形成第二抛光面；脱模分离：将所述楔形样品的第一抛光面与所述楔形模板的倾斜面之间的粘结剂进行溶解，以使所述楔形样品与所述楔形模板分离；样品清洗：利用离子束对所述楔形样品进行抛光清洗，制备获得透射电子显微镜样品成品。 2.如权利要求1所述的透射电子显微镜样品制备方法，其特征在于：在所述研磨减薄步骤中，所述楔形模板的截面为梯形或者三角形。 3.如权利要求2所述的透射电子显微镜样品制备方法，其特征在于：所述楔形模板的截面为直角梯形，且所述直角梯形的其中一个斜角的角度为0.005°至5°。 4.如权利要求2所述的透射电子显微镜样品制备方法，其特征在于：所述楔形模板的截面为直角三角形，且所述直角三角形的其中一个斜角的角度为0.005°至5°。 5.如权利要求1所述的透射电子显微镜样品制备方法，其特征在于：在所述研磨减薄步骤中，所述楔形模板采用透明且易磨损的高硼硅玻璃、树脂或有机玻璃制作。 6.如权利要求1所述的透射电子显微镜样品制备方法，其特征在于：在所述研磨抛光步骤中，所述研磨盘的研磨面上设置有具有金刚石颗粒磨料的研磨膜，所述样品的第一面依次使用镶嵌有粒径逐渐减小的金刚石颗粒的研磨膜进行研磨。 7.如权利要求1所述的透射电子显微镜样品制备方法，其特征在于：在所述研磨减薄步骤中，所述研磨盘的研磨面上设置有具有金刚石颗粒磨料的研磨膜，所述样品的第二面依次使用镶嵌有粒径逐渐减小的金刚石颗粒的研磨膜进行研磨减薄。 8.如权利要求1所述的透射电子显微镜样品制备方法，其特征在于：在所述研磨抛光步骤中，所述抛光剂为氧化铝悬浮液或二氧化硅悬浮液。 9.如权利要求1所述的透射电子显微镜样品制备方法，其特征在于：在所述研磨减薄步骤中，所述抛光剂为氧化铝悬浮液或二氧化硅悬浮液。 10.如权利要求1至9任一项所述的透射电子显微镜样品制备方法，其特征在于：在所述研磨减薄步骤中，所述楔形样品的厚度控制在50微米以内。
所属类别：	发明专利