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微米级颗粒透射电子显微镜样品的制备方法
| 专利名称： | 微米级颗粒透射电子显微镜样品的制备方法 |
| 摘要： | 本发明公开了一种微米级颗粒透射电子显微镜样品的制备方法，其包括在聚焦离子束‑扫描电镜双束系统中进行的以下工艺：选取待测的微米尺寸量级的样品颗粒；应用离子束沉积工艺在所述样品颗粒的外表面沉积第一材料，形成包覆所述样品颗粒的保护层；将包覆有保护层的所述样品颗粒焊接到样品载网上；应用离子束切割工艺对包覆有保护层的所述样品颗粒进行切割，在所述样品载网上形成厚度为纳米尺寸量级的测试样品。该方法可以简化微米级颗粒透射电子显微镜样品的制样过程，提升了制样速度，并且提高了制样的成功率。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 国家地区组织代码： | 江苏;32 |
| 申请人： | 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 |
| 发明人： | 刘通;黄增立;许蕾蕾;赵弇斐;丁孙安 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请日期： | 2018-06-12T00:00:00+0800 |
| 发布日期： | 2019-12-20T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN201810601158.2 |
| 公开号： | CN110595848A |
| 代理机构： | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 |
| 代理人： | 孙伟峰;黄进 |
| 分类号： | G01N1/28(2006.01);G;G01;G01N;G01N1 |
| 申请人地址： | 215123 江苏省苏州市苏州工业园区若水路398号 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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