专利名称: |
杂质的荧光检测 |
摘要: |
本公开内容涉及杂质的荧光检测。公开了一种用于检测杂质在板层中的存在的方法。用荧光指示器标记杂质源。将杂质源与板层分离。提供用于以与荧光指示器发荧光不同的波长照射板层的照射源,以使得板层反射不同波长的光。传感器检测板层的照射和设置在板层上的杂质中包括的荧光指示器。检测从板层反射的光和设置在杂质中的指示器的荧光的差异,从而识别杂质在板层中的存在。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
加拿大;CA |
申请人: |
维蒂克影像国际无限责任公司 |
发明人: |
K·D·鲁博 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
2019-04-08T00:00:00+0800 |
发布日期: |
2019-10-18T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201910276638.0 |
公开号: |
CN110346335A |
代理机构: |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人: |
曾琳 |
分类号: |
G01N21/64(2006.01);G;G01;G01N;G01N21 |
申请人地址: |
加拿大安大略 |
主权项: |
1.一种检测杂质在板层中的存在的方法,包括以下步骤: 用荧光指示器标记杂质源; 将所述杂质源与所述板层分离; 提供照射源以用于照射所述板层,由此所述板层反射与所述荧光指示器发荧光相比不同波长的光; 提供传感器以用于检测所述板层的照射和设置于所述板层上的杂质中包括的荧光指示器;以及 识别从所述板层反射的光和设置在杂质中的指示器的荧光的差异,从而识别杂质在所述板层中的存在。 2.根据权利要求1所述的方法,其中,照射所述板层的所述步骤通过如下来进一步限定:用具有与从所述荧光指示器反射的光相比不同波长的光照射所述板层。 3.根据权利要求1所述的方法,进一步包括:从所述传感器对来自所述照射源的光进行滤光的步骤。 4.根据权利要求1所述的方法,其中,提供照射源的所述步骤通过如下来进一步限定:提供绿色激光器和发光二极管中的一个。 5.根据权利要求1所述的方法,其中,识别从所述板层反射的光和设置在杂质中的指示器的荧光的差异的所述步骤通过如下来进一步限定:检测具有590nm和625nm之间的波长的荧光。 6.根据权利要求1所述的方法,其中,识别从所述板层反射的光和设置在杂质中的指示器的荧光的差异的所述步骤通过如下来进一步限定:检测具有大约606nm的波长的荧光。 7.根据权利要求1所述的方法,进一步包括:将所述板层在没有光源照射的情况下的图像与所述板层在有光源照射的情况下的图像进行交织以用于减去环境光的照射的步骤。 8.根据权利要求1所述的方法,进一步包括:提供监视器的步骤,所述监视器用于从所述传感器接收信号,从而产生识别荧光污染物在所述板层上的位置的图像。 9.根据权利要求1所述的方法,其中,照射所述板层的所述步骤通过如下来进一步限定:激光投影仪连续地照射所述板层,直到荧光污染物被分离为止。 10.根据权利要求1所述的方法,进一步包括:记录全部荧光污染物已经与板层分离的验证的步骤。 11.根据权利要求1所述的方法,进一步包括:所述照射源在所述板层上扫描指示器以用于识别污染物的位置的步骤。 12.根据权利要求1所述的方法,进一步包括:提供光学叠层投射系统以用于定位叠层上的感兴趣区域的步骤。 13.根据权利要求12所述的方法,进一步包括:识别感兴趣区域以用于指导激光投影仪在哪里扫描照射并用信号向照相机通知检测照射的位置从而识别污染物的步骤。 14.根据权利要求13所述的方法,进一步包括:区分用于检测污染物的关键的感兴趣区域和其中污染物不是关键的无关区域的步骤。 |
所属类别: |
发明专利 |