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一种多层膜X射线波带片的制备方法
| 专利名称： | 一种多层膜X射线波带片的制备方法 |
| 摘要： | 本发明公开了一种多层膜X射线波带片的制备方法，具体方法为：将丝状样品垂直固定于样品托侧面；运用FIB切割，只切割丝状样品的多层膜，垂直从上向下将可见部分多层膜切成指定厚度；将样品切割部分用液态胶浸润；通过旋转将未切割的多层膜部分朝上，并将切割好的位置用液态胶接触固定一铜箔，再运用FIB将保留的多层膜两边的多层膜以及中心丝完全切断；利用机械手进行上述步骤切割好的波带片转移；运用FIB沉积技术固定波带片于载网的特定位置；切除机械手，对波带片进行抛光，获得所需制备的波带片；本发明可以实现超薄波带片的制备，可以保护波带片的多层膜，因为有液态胶的保护所以加强了超薄波带片的自支撑能力。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 国家地区组织代码： | 北京;11 |
| 申请人： | 中国科学院电工研究所 |
| 发明人： | 孔祥东;姚广宇;李艳丽;董增雅;张炜;韩立 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请日期： | 2019-09-09T00:00:00+0800 |
| 发布日期： | 2019-11-12T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN201910857821.X |
| 公开号： | CN110441115A |
| 代理机构： | 北京高沃律师事务所 |
| 代理人： | 张德才 |
| 分类号： | G01N1/28(2006.01);G;G01;G01N;G01N1 |
| 申请人地址： | 100190北京市海淀区中关村北二条6号中科院电工所 |
| 主权项： | 1.一种多层膜X射线波带片的制备方法，其特征在于，包括以下步骤： (1)、将丝状样品垂直固定于样品托侧面； (2)、运用FIB切割，只切割丝状样品的多层膜，垂直从上向下将可见部分多层膜切成指定厚度； (3)、将样品切割部分用液态胶浸润； (4)、通过旋转将步骤2中未切割的多层膜部分朝上，并将步骤2中切割好的位置用液态胶接触固定一铜箔，再运用FIB将步骤2中保留的多层膜两边的多层膜以及中心丝完全切断； (5)、利用机械手进行上述步骤切割好的波带片转移； (6)、运用FIB沉积技术固定波带片于载网的特定位置； (7)、切除机械手，对波带片进行抛光，获得所需制备的波带片。 2.根据权利要求1所述的多层膜X射线波带片的制备方法，其特征在于：所述样品托为正方体结构，所述丝状样品通过液态胶粘结到样品托侧面，固定后的所述丝状样品水平悬空。 3.根据权利要求1所述的多层膜X射线波带片的制备方法，其特征在于：通过机械旋转将所述样品脱旋转180°，将步骤2中未切割的多层膜部分朝上。 4.根据权利要求1所述的多层膜X射线波带片的制备方法，其特征在于：运用FIB切断所述机械手。 5.根据权利要求1所述的多层膜X射线波带片的制备方法，其特征在于：波带片运用FIB进行抛光。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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