专利名称: |
薄膜桥压式氢气氛传感器 |
摘要: |
本发明公开了薄膜桥压式氢气传感器,包括依次设置的基底层、绝缘层、阻挡层与敏感电阻层;所述敏感电阻层设置有敏感电阻桥路;所述敏感电阻桥路包括氢敏感元件与温度补偿元件;所述阻挡层设置于温度补偿元件上下两侧层面,用于隔绝氢气和所述温度补偿元件;所述基底层用于绝缘层载体;所述绝缘层用于基底层隔离。本发明薄膜桥压式氢气传感器能够成倍增敏并自带温度补偿功能,能够适用于微间隙测量,减小了环境交叉干扰。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
四川;51 |
申请人: |
中国工程物理研究院总体工程研究所 |
发明人: |
庄志;张毅;李树勇 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
2019-09-12T00:00:00+0800 |
发布日期: |
2019-11-08T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201910864385.9 |
公开号: |
CN110426422A |
代理机构: |
北京天奇智新知识产权代理有限公司 |
代理人: |
杨春 |
分类号: |
G01N27/12(2006.01);G;G01;G01N;G01N27 |
申请人地址: |
621908 四川省绵阳市绵山路64号 |
主权项: |
1.薄膜桥压式氢气氛传感器,其特征在于,为多层薄膜式结构,包括依次设置的基底层、绝缘层、阻挡层与敏感电阻层;所述敏感电阻层设置有敏感电阻桥路;所述敏感电阻桥路包括氢敏感元件与温度补偿元件;所述阻挡层覆盖于温度补偿元件上下两侧层面,用于隔绝氢气与所述温度补偿元件;所述基底层用于作为传感器件的载体;所述绝缘层用于基底层与敏感层隔离,并使传感器与大地绝缘。 2.根据权利要求1所述薄膜桥压式氢气氛传感器,其特征在于,所述敏感电阻层还设置有电极层,用于将所述敏感电阻桥路节点引接至外部监控设备。 3.根据权利要求1所述薄膜桥压式氢气氛传感器,其特征在于,所述敏感电阻桥包括氢敏感电阻R1、温度补偿电阻丝R2、氢敏感电阻R3、温度补偿电阻丝R4、第一输出节点、第二输出节点、第三输出节点与第四输出节点;所述氢敏感电阻R1第一端接所述温度补偿电阻丝R4第一端、第一输出节点;所述氢敏感电阻R1第二端接所述温度补偿电阻丝R2第一端、第二输出节点;所述温度补偿电阻丝R2第二端接所述氢敏感电阻R3第二端、第三输出节点;所述温度补偿电阻丝R4第二端接所述氢敏感电阻R3第一端、第四输出节点。 4.根据权利要求2所述薄膜桥压式氢气氛传感器,其特征在于,所述氢敏感电阻R1与温度补偿电阻丝R4设置于敏感电阻层中心线第一侧、所述温度补偿电阻丝R2与氢敏感电阻R3设置于敏感电阻层中心线第二侧,或所述氢敏感电阻R1与与氢敏感电阻R3设置于敏感电阻层中心线第一侧、所述温度补偿电阻丝R2与温度补偿电阻丝R4设置于敏感电阻层中心线第二侧。 5.根据权利要求1所述薄膜桥压式氢气氛传感器,其特征在于,所述基底层为Si基片。 6.根据权利要求1所述薄膜桥压式氢气氛传感器,其特征在于,所述基底层厚度为100-400微米,可用于微间隙测试。 7.根据权利要求1所述薄膜桥压式氢气氛传感器,其特征在于,所述绝缘层材质为SiO2,用于将基地和敏感层及电极隔离并使之与大地绝缘。 8.根据权利要求1所述薄膜桥压式氢气氛传感器,其特征在于,所述氢敏感元件与温度补偿元件为钯基贵金属材料。 9.根据权利要求3所述薄膜桥压式氢气氛传感器,其特征在于,所述氢敏感电阻R1、温度补偿电阻丝R2、氢敏感电阻R3及温度补偿电阻丝R4采用同种材料,且阻值相同。 |
所属类别: |
发明专利 |