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原文传递双通道变焦式干涉系统

专利名称：	双通道变焦式干涉系统
摘要：	本实用新型涉及一种双通道变焦式干涉系统，包括：激光发生单元，用于产生偏振的探针光，探针光透射过所述待测物后形成信息光；变焦单元和分束单元，沿信息光的传输方向依次设置，变焦单元通过变焦对信息光进行放大，分束单元将经过变焦单元放大后的信息光进行分束为形状测量光和密度测量光；形状测量单元，设置在来自分束单元的形状测量光的发射方向上，通过形状测量光测量待测物的形状；电子密度测量单元，设置在来自分束单元的密度测量光的发射方向上，通过密度测量光测量待测物的电子密度。本实用新型所提供的双通道变焦式干涉系统，方便地调节激光发生装置和待测物之间的距离，有利于对待测物密度及形状的观测。
专利类型：	实用新型
国家地区组织代码：	北京;11
申请人：	北京师范大学
发明人：	郭伟长风;平永利;孙伟;仲佳永
专利状态：	有效
申请日期：	2019-01-10T00:00:00+0800
发布日期：	2019-11-12T00:00:00+0800
申请号：	CN201920037765.0
公开号：	CN209624403U
分类号：	G01N21/84(2006.01);G;G01;G01N;G01N21
申请人地址：	100875北京市海淀区新街口外大街19号
主权项：	1.一种双通道变焦式干涉系统，其特征在于，包括：激光发生单元，用于产生偏振的探针光，所述探针光透射过待测物后形成信息光；变焦单元和分束单元，沿所述信息光的传输方向依次设置，所述变焦单元通过变焦对信息光进行放大，所述分束单元将经过所述变焦单元放大后的信息光进行分束为形状测量光和密度测量光；形状测量单元，设置在来自所述分束单元的形状测量光的发射方向上，通过所述形状测量光测量待测物的形状；电子密度测量单元，设置在来自所述分束单元的密度测量光的发射方向上，通过所述密度测量光测量所述待测物的电子密度。 2.根据权利要求1所述的双通道变焦式干涉系统，其特征在于，所述激光发生单元包括：激光器和第一偏振片，所述第一偏振片设置在所述激光器的激光出射方向上。 3.根据权利要求1所述的双通道变焦式干涉系统，其特征在于，所述变焦单元包括：第一成像透镜、第二成像透镜和第三成像透镜，沿所述信息光传输方向依次设置；调节钮，与所述第二成像透镜连接设置，移动所述调节钮使所述第二成像透镜水平远离或靠近所述第一成像透镜方向移动；精密凸轮，分别连接所述第二成像透镜与所述第三成像透镜，所述精密凸轮使的所述第二成像透镜移动时所述第三成像透镜同步移动。 4.根据权利要求3所述的双通道变焦式干涉系统，其特征在于，所述调节钮为机械调节钮或电子调节钮。 5.根据权利要求3所述的双通道变焦式干涉系统，其特征在于，所述调节钮控制所述第二成像透镜的移动范围为距离所述第一成像透镜15cm-220cm。 6.根据权利要求1所述的双通道变焦式干涉系统，其特征在于，所述形状测量单元包括：沿所述形状测量光传输方向依次设置第四成像透镜和第一接收装置。 7.根据权利要求1所述的双通道变焦式干涉系统，其特征在于，所述电子密度测量单元包括：沿所述密度测量光传输方向依次设置的第一全反射镜、Normaski干涉装置和第二接收装置。 8.根据权利要求7所述的双通道变焦式干涉系统，其特征在于，所述Normaski干涉装置包括沿所述密度测量光传输方向依次设置的第五成像透镜、渥拉斯顿棱镜和第二偏振片。 9.根据权利要求1所述的双通道变焦式干涉系统，其特征在于，所述双通道变焦式干涉系统还包括底座，所述形状测量单元和所述电子密度测量单元分布设置在所述底座上。 10.根据权利要求9所述的双通道变焦式干涉系统，其特征在于，所述双通道变焦式干涉系统还包括框架所述框架设置在所述底座上，所述形状测量单元和所述电子密度测量单元设置在所述框架内。
所属类别：	实用新型