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一种同时观测晶体形貌及测量晶体周围浓度场的装置
| 专利名称： | 一种同时观测晶体形貌及测量晶体周围浓度场的装置 |
| 摘要： | 本发明实施例涉及一种同时观测晶体形貌及测量晶体周围浓度场的装置，所述装置包括：第一光源、辅助聚光镜、第二光源、反射镜、视场光阑、第一透镜、样品晶体、第二透镜、相板、刀口、第三透镜、分光棱镜、目镜、CCD；其中，第一光源、辅助聚光镜、反射镜、视场光阑、第一透镜、样品晶体、第二透镜、相板、刀口、第三透镜、分光棱镜、CCD以水平线为基准，以预设间距依次排开；第二光源在反射镜上方或者下方，目镜在分光棱镜斜上方或者斜下方；视场光阑、相板、分光棱镜在同一模块进行固定，刀口、第三透镜在同一模块进行固定。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 国家地区组织代码： | 北京;11 |
| 申请人： | 中国科学院力学研究所 |
| 发明人： | 戴国亮;史建平 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请日期： | 2019-09-24T00:00:00+0800 |
| 发布日期： | 2019-12-17T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN201910904388.0 |
| 公开号： | CN110579474A |
| 代理机构： | 北京和信华成知识产权代理事务所(普通合伙) |
| 代理人： | 席卷 |
| 分类号： | G01N21/84(2006.01);G;G01;G01N;G01N21 |
| 申请人地址： | 100190 北京市海淀区北四环西路15号 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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