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半导体处理系统用闸阀及真空容器
| 专利名称： | 半导体处理系统用闸阀及真空容器 |
| 摘要： | 半导体处理系统用闸阀(20)包含沿第一方向形成并列的多个通 路(22A～22D)的壳体(21)，通路各自具有面对与第一方向正交的 第二方向的进出口(23A～23D)，在各进出口配设的阀座(25A～25D)， 越靠近第一方向的第二规定侧，越配置在第二方向顺序后退后的位置 上。开闭进出口的多个阀板(24A～24D)在第二方向并列配置，阀板 通过驱动机构(30A～30D)滑动。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 申请人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 发明人： | 广木勤 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请日期： | 2004-02-27T00:00:00+0800 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN200480000201.6 |
| 公开号： | CN1698179 |
| 代理机构： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 |
| 代理人： | 龙 淳 |
| 分类号： | H01L21/02 |
| 申请人地址： | 日本东京都 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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