专利名称: | 移送装置和半导体处理系统 |
摘要: | 半导体处理系统中的移送装置(17)包括能够分别在相互平行的 有第一和第二垂直平面上移动的第一和第二支持部的第一和第二动作 机构(9A、9B)。按照通过第一和第二动作机构以水平状态移动的方 式由第一和第二支持部支持第一和第二移动台(18A、18B)。在第一 和第二移动台上,分别配置着接收被处理基板(W)的能够伸缩的第 一和第二搬运机构(19A、19B)。控制部(20)使第一和第二移动台 互不干涉地控制第一和第二动作机构的动作。 |
专利类型: | 发明专利 |
申请人: | 东京毅力科创株式会社 |
发明人: | 广木勤 |
专利状态: | 有效 |
申请日期: | 2004-02-20T00:00:00+0800 |
发布日期: | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
申请号: | CN200480000334.3 |
公开号: | CN1698191 |
代理机构: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 |
代理人: | 龙 淳 |
分类号: | H01L21/68 |
申请人地址: | 日本东京都 |
所属类别: | 发明专利 |