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原文传递 半导体处理系统中的端口机构
专利名称: 半导体处理系统中的端口机构
摘要: 在半导体处理系统(2)的端口机构(16A)中,在立壁(52、54)上形成的端口(12A)上设置滑门(20A)。在系统的外面靠近端口处设置台(48)。在台上形成装载被处理基板(W)的开放型盒子(18A)的装载区(76)。对台设置可转动的护罩(50),在关闭位置上,护罩形成包围装载区和端口的封闭空间,具有能够收纳盒子的大小。在立壁和门中的至少一边形成第一通气孔(58),使气体从系统内部导向端口内的封闭空间。在台上形成第二通气孔(72),使气体从封闭空间排到外部。
专利类型: 发明专利
申请人: 东京毅力科创株式会社
发明人: 吉田哲雄;佐佐木义明;佐伯弘明;谷山育志;泷泽浩士
专利状态: 有效
申请日期: 2003-02-17T00:00:00+0800
发布日期: 2019-01-01T00:00:00+0800
申请号: CN03803618.5
公开号: CN1630942
代理机构: 北京纪凯知识产权代理有限公司
代理人: 龙淳
分类号: H01L21/68
申请人地址: 日本东京都
所属类别: 发明专利
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