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工艺系统以及用于输送基片的装置
| 专利名称： | 工艺系统以及用于输送基片的装置 |
| 摘要： | 在按本发明的工艺系统中，通过至少两个相互隔开布置的激励器 构成了具有所属的缝隙区域的激励器对，其中在该缝隙区域中设有支 承转子的有源磁性支承，其中该工艺系统具有用于在输送线路(T)上 输送基片(23)的装置，其中该装置具有一个支承模块和一个驱动模 块，并且支承模块具有一个带有构造成电磁体的激励器的支承定子和 一个带有铁磁体构件的支承转子。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 申请人： | 莱博德光学有限责任公司 |
| 发明人： | M·勒德;A·卡斯帕里;C·克勒森 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请日期： | 2005-06-01T00:00:00+0800 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN200580001545.3 |
| 公开号： | CN1906749 |
| 代理机构： | 中国专利代理(香港)有限公司 |
| 代理人： | 蔡民军;胡 强 |
| 分类号： | H01L21/677(2006.01)I |
| 申请人地址： | 德国阿尔策瑙 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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