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原文传递台装置和等离子体处理装置

专利名称：	台装置和等离子体处理装置
摘要：	本发明涉及台装置和等离子体处理装置。提供在台的载置面上载置有被处理基板的状态下，在升降销的上端和载置面之间不产生高低平面差的台装置，此外，还提供利用该台装置作为电极台，能够抑制处理不均的发生的等离子体处理装置。在电极台(2)的中央部，配置有沿销移动方向具有弹性的弹簧式升降销(20)。弹簧式升降销(20) 在收容位置上，销上端(20a)从电极台(2)的载置面(11)向上方突出，通过在载置面(11)上载置并吸附被处理基板(4)，由于从被处理基板(4)受到的负荷而被压下至与载置面(11
专利类型：	发明专利
申请人：	夏普株式会社;积水化学工业株式会社
发明人：	若崎环树;佐藤崇;田中惠一;中嶋节男;真弓聪;中野良宪
专利状态：	有效
申请日期：	2006-12-22T00:00:00+0800
发布日期：	2019-01-01T00:00:00+0800
申请号：	CN200680049571.8
公开号：	CN101352108
代理机构：	北京纪凯知识产权代理有限公司
代理人：	刘春成
分类号：	H05H1/24(2006.01)I
申请人地址：	日本大阪府
所属类别：	发明专利