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原文传递一种用于改变人工晶状体表面材质性能的紫外真空系统

专利名称：	一种用于改变人工晶状体表面材质性能的紫外真空系统
摘要：	本实用新型公开了一种用于改变人工晶状体表面材质性能的紫外真空系统，属于人工晶体生产技术领域，包括：真空箱体，其内部为真空室，真空室的底部设有旋转轴，该旋转轴的顶部可拆卸地设置有随其旋转的圆盘，圆盘的边缘间隔设有用于放置人工晶状体的晶托，真空箱体的上壁和/或下壁在对应圆盘边缘的位置设有紫外线光源照射孔；真空管路，连通真空室与外部真空机；以及紫外线光源，将紫外线由紫外线光源照射孔照射到真空室内。紫外线光源照射孔与圆盘边缘对应，即在圆盘旋转的过程中，紫外线光源刚好照射到晶托上的人工晶状体，实现靶向照射，防止资源的浪费。
专利类型：	实用新型
国家地区组织代码：	浙江;33
申请人：	杭州爱晶伦科技有限公司
发明人：	吕明;江勇;高静
专利状态：	有效
申请日期：	2018-09-29T00:00:00+0800
发布日期：	2019-06-11T00:00:00+0800
申请号：	CN201821609241.6
公开号：	CN208963750U
代理机构：	杭州天勤知识产权代理有限公司
代理人：	胡红娟
分类号：	B65D81/20(2006.01);B;B65;B65D;B65D81
申请人地址：	311121 浙江省杭州市余杭区五常街道文一西路998号4幢204室
主权项：	1.一种用于改变人工晶状体表面材质性能的紫外真空系统，其特征在于，包括：真空箱体，其内部为真空室，所述真空室的底部设有旋转轴，该旋转轴的顶部可拆卸地设置有随其旋转的圆盘，所述圆盘的边缘间隔设有用于放置人工晶状体的晶托，所述真空箱体的上壁和/或下壁在对应所述圆盘边缘的位置设有紫外线光源照射孔；真空管路，连通所述真空室与外部真空机；紫外线光源，提供系统所需要的紫外线，将紫外线由所述紫外线光源照射孔照射到所述真空室内。 2.根据权利要求1所述的紫外真空系统，其特征在于：还包括设置在所述的真空箱体外的报警器，所述报警器启动后达到设定的时间时进行报警。 3.根据权利要求1所述的紫外真空系统，其特征在于：所述的旋转轴为台阶轴，其包括与驱动器连接的第一轴体和用于安装所述圆盘的第二轴体，所述第二轴体的直径小于所述第一轴体，在所述第二轴体上设有健体；所述圆盘的中心设有与所述第二轴体配合的中心孔，且在中心孔的边缘开设有与所述健体配合的键槽。 4.根据权利要求3所述的紫外真空系统，其特征在于：所述的驱动器为设置在所述真空箱体底部的步进电机，所述的旋转轴穿过所述真空箱体的底壁后与所述步进电机的输出端相连，所述旋转轴与所述真空箱体的底壁旋转密封配合。 5.根据权利要求1所述的紫外真空系统，其特征在于：所述的真空箱体设有一密封门，该密封门的其中一边与所述真空箱体间通过铰链铰接，与该边相对的一边与真空箱体间设有锁紧机构；所述密封门在与所述真空箱体相闭合的一侧设有橡胶密封圈。 6.根据权利要求5所述的紫外真空系统，其特征在于：所述的锁紧机构包括安装在所述密封门上锁扣和安装在所述真空箱体上的锁钩；所述锁扣包括与所述密封门固定的固定部和与所述固定部活动连接的活动部，所述活动部设有手柄和与所述锁钩扣合的凸块。 7.根据权利要求1所述的紫外真空系统，其特征在于：所述的真空箱体上设有用于在完成真空照射工作后破除箱体真空状态的真空阀和用于检测所述真空室内真空度的真空压力表。 8.根据权利要求1所述的紫外真空系统，其特征在于：所述的晶托上设有可拆卸的顶盖；所述晶托和顶盖均为镂空设计。 9.根据权利要求1所述的紫外真空系统，其特征在于：所述的紫外线光源包括与所述紫外线光源照射孔相通的氘灯以及与所述氘灯相连的紫外线发生器。 10.根据权利要求1所述的紫外真空系统，其特征在于：所述的真空箱体的上壁和下壁上各设置一个所述的紫外线光源照射孔，且两紫外线光源照射孔对位上下错开。
所属类别：	实用新型