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原文传递用于识别样品的X射线荧光系统和方法

专利名称：	用于识别样品的X射线荧光系统和方法
摘要：	提出了控制系统和方法，用于控制X射线荧光(XRF)系统检测由样品携带的至少一种材料(例如，由样品携带的至少一种标记物)的操作。控制系统包括：数据输入实用工具，用于接收包括关于所述至少一种材料/标记物的材料/标记物相关数据；以及数据处理器和分析仪实用工具。数据处理器和分析仪实用工具配置为和可操作为：用于分析输入数据并确定XRF系统的最佳几何特征，以优化所述XRF系统的操作条件，从而使到达样品的预定区域并被所述区域的体积吸收的主X射线辐射的量最大化并且使从所述区域发射的二次辐射到达XRF系统的检测器的部分最大化：并且用于生成XRF系统的实现XRF系统的几何特征的调整的操作数据。
专利类型：	发明专利
国家地区组织代码：	以色列;IL
申请人：	索雷克核研究中心
发明人：	Y·格罗夫;T·吉斯列夫;N·佑兰;H·阿龙;M·卡普林斯基
专利状态：	有效
申请日期：	2017-09-17T00:00:00+0800
发布日期：	2019-07-09T00:00:00+0800
申请号：	CN201780070097.5
公开号：	CN109997031A
代理机构：	北京市中伦律师事务所
代理人：	杨黎峰;钟锦舜
分类号：	G01N23/223(2006.01);G;G01;G01N;G01N23
申请人地址：	以色列亚夫内
主权项：	1.一种控制系统，用于控制X射线荧光(XRF)系统检测由样品携带的至少一种材料的操作，所述控制系统包括：数据输入实用工具，其用于接收包括关于由所述样品携带的所述至少一种材料的材料相关数据的输入数据；数据处理器和分析仪实用工具，其配置为和可操作为：用于分析所述输入数据并确定所述XRF系统的最佳几何特征，以优化所述XRF系统的操作条件，从而使到达所述样品的预定区域并被所述区域的体积吸收的主X射线辐射的量最大化并且使从所述区域发射的二次辐射的到达所述XRF系统的检测器的部分最大化；以及用于生成所述XRF系统的实现所述XRF系统的几何特征的调整的操作数据。 2.根据权利要求1所述的控制系统，其中，所述至少一种材料与由所述样品携带的至少一种标记物相关联。 3.根据权利要求1或2所述的控制系统，其中，关于所述至少一种材料的所述材料相关数据包括以下中的至少一者：所述至少一种材料在所述样品内的位置；所述样品的所述至少一种材料所在的表面区域的侧向尺寸；以及所述至少一种材料的定义所述体积的结构厚度。 4.根据权利要求1至3中任一项所述的控制系统，其中，待优化的所述XRF系统的所述几何特征包括以下中的至少两者：所述XRF系统的主辐射发射平面与样品平面之间的距离；所述XRF系统的检测平面与样品平面之间的距离；由所述XRF系统定义的照射通道的角度取向；以及由所述XRF系统定义的检测通道的角度取向。 5.根据权利要求4所述的控制系统，其中，所述几何特征包括位于在所述XRF系统中使用的X射线源的发射端处的散射板组件的配置。 6.根据前述权利要求中任一项所述的控制系统，其中，所述数据处理器和分析仪还配置为和可操作为用于处理由所述XFT系统检测到的测量数据并识别所述至少一种标记物。 7.根据前述权利要求中任一项所述的控制系统，其中，到达所述预定区域的主X射线辐射量的所述最大化使得所述主辐射尽可能地被限制于所述样品的存在所述至少一种材料的表面区域的所述体积，从而增加由所述体积吸收所述主辐射的可能性，并且降低所述主辐射穿过所述体积进入样品块的可能性。 8.一种X射线荧光(XRF)系统，用于检测由样品携带的至少一种材料，所述XRF系统包括：X射线源，用于朝向样品平面发射主辐射；检测器，用于检测来自所述样品的二次辐射；以及控制器；其中，所述控制器配置为和可操作为用于接收操作数据并调整所述XRF系统的几何特征，所述几何特征包括以下中的至少两者：所述X射线源的主辐射发射平面与样品平面之间的距离；所述检测器的检测平面与样品平面之间的距离；由所述X射线源定义的照射通道的角度取向；以及由所述检测器定义的检测通道的角度取向。 9.根据权利要求8所述的XRF系统，其中，所述至少一种材料与由所述样品携带的至少一种标记物相关联。 10.根据权利要求8或9所述的XRF系统，其中，所述X射线源包括位于所述X射线源的发射端部的散射板组件，所述散射板组件配置为用于吸收所述主辐射并发射期望波长和朝向样品平面上的预定区域传播的方向的二次辐射。 11.一种X射线荧光(XRF)系统，用于检测由样品携带的至少一种标记物，所述XRF系统包括：X射线源，用于向样品平面发射主辐射；检测器，用于检测来自所述样品的二次辐射；其中，所述X射线源包括位于所述X射线源的发射端部的散射板组件，所述散射板组件配置为用于吸收主辐射并发射期望波长和朝向样品平面上的预定区域传播的方向的二次辐射。 12.根据权利要求11所述的XRF系统，还包括控制器，所述控制器配置为和可操作为用于接收操作数据并调整所述XRF系统的几何特征，所述几何特征包括以下中的至少一者：所述X射线源的主辐射发射平面与样品平面之间的距离；所述检测器的检测平面与样品平面之间的距离；由所述X射线源定义的照射通道的角度取向；由所述检测器定义的检测通道的角度取向；以及待在所述X射线源中使用的散射板组件的配置。 13.一种用于在样品上使用X射线荧光(XRF)测量以检测由所述样品携带的至少一种材料的方法，所述方法包括：提供关于所述至少一种材料的材料相关数据，所述材料相关数据包括以下中的至少一者：所述至少一种材料在所述样品内的位置；所述样品的所述至少一种材料所在的表面区域的侧向尺寸；以及所述至少一种材料的定义所述样品的期望吸收体积的结构厚度；分析所述材料相关数据并确定待在所述样品上的XRF测量中使用的XRF系统的最佳几何特征，以优化所述XRF系统的操作条件，从而使到达所述样品的所述期望体积并被所述体积吸收的主X射线辐射的量最大化，并且使从所述体积发射的二次辐射的到达所述XRF系统的检测器的部分最大化；以及生成要提供给所述XRF系统的控制器的操作数据，以用于调整所述XRF系统的几何特征，所述几何特征包括以下中的至少一者：所述XRF系统的主辐射发射平面与样品平面之间的距离；所述XRF系统的检测平面与样品平面之间的距离；由所述XRF系统定义的照射通道的角度取向；由所述XRF系统定义的检测通道的角度取向；以及位于所述XRF系统的发射端部的散射板组件的配置。 14.根据权利要求13所述的方法，其中，所述至少一种材料与由所述样品携带的至少一种标记物相关联。
所属类别：	发明专利