专利名称: |
一种测量超临界流体相分离气体中铀含量的方法 |
摘要: |
本发明属于铀矿实验地球化学领域,具体涉及一种测量超临界流体相分离气体中铀含量的方法,该方法包括以下步骤:步骤(1)反应样品的制备和NaCl溶液、低浓度HNO3溶液的配制;步骤(2)将步骤(1)所得的样品、NaCl溶液置于反应釜中,调整反映温度和压力;步骤(3)在步骤(2)达到的温度、压力条件下溶剂与铀矿石样品反应;步骤(4)降温使超临界流体相分离,相分离气体取样;步骤(5)对步骤(4)所获得的样品进行铀含量测试;步骤(6)对步骤(5)所获数据进行整理,计算相分离气体铀含量。本发明可操作性强,为认识铀在超临界流体相分离过程中的地球化学行为和发展热液铀成矿理论提供可靠的实验数据支撑。 |
专利类型: |
发明专利 |
申请人: |
核工业北京地质研究院 |
发明人: |
胡志华;王文全;林锦荣;陶意;王勇剑 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
1900-01-20T00:00:00+0805 |
发布日期: |
1900-01-20T22:00:00+0805 |
申请号: |
CN201911401263.2 |
公开号: |
CN111189973A |
代理机构: |
核工业专利中心 |
代理人: |
闫兆梅 |
分类号: |
G01N33/00;G01N1/28;G01N1/44;G;G01;G01N;G01N33;G01N1;G01N33/00;G01N1/28;G01N1/44 |
申请人地址: |
100029 北京市朝阳区小关东里十号院 |
主权项: |
1.一种测量超临界流体相分离气体中铀含量的方法,其特征在于:该方法具体包括以下步骤: 步骤(1)制备反应样品,配制NaCl溶液和HNO3溶液; 步骤(2)将步骤(1)所得的样品、NaCl溶液置于反应釜中,调整反应温度、压力至临界温度、临界压力之上; 步骤(3)在步骤(2)达到的温度、压力条件(超临界)下NaCl溶液与铀矿石样品反应; 步骤(4)对步骤(3)所得的含铀超临界流体降温致使其发生相分离,将相分离出的气体导入HNO3溶液中,取样送分析室; 步骤(5)测定步骤(4)所获得的含铀HNO3溶液中的铀含量; 步骤(6)对步骤(5)所获得的铀含量数据进行计算,得到相分离气体铀含量。 2.根据权利要求1所述的一种测量超临界流体相分离气体中铀含量的方法,其特征在于:所述的步骤(1)具体包括以下步骤: 步骤(1.1)将铀矿石粉碎至200目,将粉末置于去离子水中并搅拌均匀,用超声波清洗10分钟,沉淀,倒去悬浮液,然后置于50℃鼓风干燥箱中烘干6小时备用; 步骤(1.2)将一定量的NaCl固体置于一定量的H2O中,摇匀,充分溶解,配制成一定浓度的NaCl溶液备用; 步骤(1.3)将一定量的浓HNO3溶液置于一定量的H2O中,摇匀,配制成低浓度的HNO3溶液备用。 3.根据权利要求2所述的一种测量超临界流体相分离气体中铀含量的方法,其特征在于:所述的步骤(2)具体包括以下步骤: 步骤(2.1)将1g矿石、200mlNaCl溶液置于高温高压反应釜中,充分搅拌,密封反应釜; 步骤(2.2)充入氮气,释放两次气,将反应釜中的氧气去除,充满氮气,加压至一定压力值; 步骤(2.3)开启加热炉,加热至临界温度之上的温度值;适当释放氮气,调整压力至所设定压力值。 4.根据权利要求3所述的一种测量超临界流体相分离气体中铀含量的方法,其特征在于:所述的步骤(2)中所设定压力值高于临界压力。 5.根据权利要求4所述的一种测量超临界流体相分离气体中铀含量的方法,其特征在于:所述的步骤(3)保持步骤(2)所设定的温度、压力,让NaCl溶液与铀矿石样品反应5小时。 6.根据权利要求5所述的一种测量超临界流体相分离气体中铀含量的方法,其特征在于:所述的步骤(4)具体包括以下步骤: 步骤(4.1)实验反应5小时后,关闭加温炉停止加热,开始降温,在跨越临界温度时超临界流体发生相分离,分离出气体和溶液; 步骤(4.2)继续降温至100℃以下后,开启气闸,将气体缓慢导入步骤(1.3)所获得的HNO3溶液中,将气体中的气态铀溶解于HNO3溶液中; 步骤(4.3)气体完全放完后,摇晃取样瓶使溶液均一,取一定量的HNO3溶液样品,送分析室测定铀含量。 7.根据权利要求6所述的一种测量超临界流体相分离气体中铀含量的方法,其特征在于:所述的步骤(6)对步骤(5)得到的分析数据进行整理、计算,得到超临界相分离气体中的铀含量。 8.根据权利要求7所述的一种测量超临界流体相分离气体中铀含量的方法,其特征在于:所述的步骤(6)中计算的公式为 U=Um*Vm/V 其中,U为超临界流体相分离气体中的铀含量,Um为含铀HNO3溶液中的铀含量,Vm为含铀HNO3溶液体积,V为超临界流体相分离气体的体积,即反应釜总体积与NaCl溶液体积之差。 |
所属类别: |
发明专利 |