专利名称: |
一种检测方法和检测设备 |
摘要: |
本发明提供了一种检测方法和检测设备,包括:提供检测光,所述检测光在待测物表面形成检测光斑,所述检测光经所述待测物形成信号光;探测所述待测物表面探测区内的第一信号光,所述探测区与所述检测光斑至少部分重叠,调整第一信号光的检测区域的尺寸,其中,调整第一信号光的检测区域的尺寸包括:在对所述待测物远离其中心的区域进行检测时,将检测第一信号光的检测区域调整为第一尺寸,在对所述待测物靠近其中心的区域进行检测时,将检测第一信号光的检测区域调整为第二尺寸,在垂直于扫描方向的方向上,所述第一尺寸大于所述第二尺寸,以减小光斑内外两侧的扫描速度差异,提高检测的灵敏度。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
广东;44 |
申请人: |
深圳中科飞测科技股份有限公司 |
发明人: |
陈鲁;方一;黄有为;魏林鹏 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
2020-09-17T00:00:00+0800 |
发布日期: |
2022-03-18T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN202010981796.9 |
公开号: |
CN114199891A |
代理机构: |
北京集佳知识产权代理有限公司 |
代理人: |
李婷婷 |
分类号: |
G01N21/95;H01L21/67;H01L21/66;G;H;G01;H01;G01N;H01L;G01N21;H01L21;G01N21/95;H01L21/67;H01L21/66 |
申请人地址: |
518109 广东省深圳市龙华区大浪街道同胜社区上横朗第四工业区2号101、201、301 |
主权项: |
1.一种检测方法,其特征在于,包括: 提供检测光,所述检测光在待测物表面形成检测光斑,所述检测光经所述待测物形成信号光; 探测所述待测物表面探测区内的第一信号光,所述探测区与所述检测光斑至少部分重叠; 调整所述第一信号光的检测区域的尺寸; 其中,调整所述第一信号光的检测区域的尺寸包括: 在对所述待测物远离其中心的区域进行检测时,将所述第一信号光的检测区域调整为第一尺寸,在对所述待测物靠近其中心的区域进行检测时,将所述第一信号光的检测区域调整为第二尺寸,在垂直于扫描方向的方向上,所述第一尺寸大于所述第二尺寸。 2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,调整所述第一信号光的检测区域的尺寸包括: 调整所述检测光斑的尺寸和/或调整所述探测区的尺寸。 3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在所述提供检测光之前还包括: 使所述探测区的中心与所述检测光斑的中心重叠。 4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,在对所述待测物远离其中心的区域进行检测时,将所述第一信号光的检测区域调整为第一尺寸,在对所述待测物靠近其中心的区域进行检测时,将所述信号光的检测区域调整为第二尺寸包括: 在对所述待测物远离其中心的区域进行检测时,将所述检测光斑的尺寸调整为第一尺寸,在对所述待测物靠近其中心的区域进行检测时,将所述检测光斑的尺寸调整为第二尺寸,且在任一方向上,所述检测光斑的尺寸小于等于所述探测区的尺寸; 和/或,在对所述待测物远离其中心的区域进行检测时,将所述探测区的尺寸调整为第一尺寸,在对所述待测物靠近其中心的区域进行检测时,将所述探测区的尺寸调整为第二尺寸,且在任一方向上,所述探测区的尺寸小于等于所述检测光斑的尺寸。 5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,将所述检测光斑的尺寸调整为第一尺寸包括:控制第一扩束组件进入所述检测光的光路,和/或,控制第一光阑组件离开所述检测光的光路,以将所述检测光斑的尺寸调整为第一尺寸; 将所述检测光斑的尺寸调整为第二尺寸包括:控制所述第一扩束组件离开所述检测光的光路,和/或,控制所述第一光阑组件进入所述检测光的光路,以将所述检测光斑的尺寸调整为第二尺寸。 6.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,将所述探测区的尺寸调整为第一尺寸,将所述探测区的尺寸调整为第二尺寸包括: 控制探测模块感兴趣的探测区的尺寸,以将所述探测区的尺寸调整为第一尺寸,将所述探测区的尺寸调整为第二尺寸; 其中,所述探测模块用于探测所述待测物表面探测区内的信号光。 7.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,将所述探测区的尺寸调整为第一尺寸包括:控制第二光阑组件离开所述信号光的光路,以将所述探测区的尺寸调整为第一尺寸; 将所述探测区的尺寸调整为第二尺寸包括: 控制所述第二光阑组件进入所述信号光的光路,以将所述探测区的尺寸调整为第二尺寸。 8.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在远离所述待测物中心的方向上,所述待测物包括依次排列的第一区域至第N区域,N为大于或等于2的自然数,调整检测所述待测物表面的所述信号光的区域的尺寸包括: 在对所述第一区域至所述第N区域依次进行检测时,将所述检测光斑的尺寸依次调大; 和/或,在对所述第一区域至所述第N区域依次进行检测时,将所述探测区的尺寸依次调大。 9.一种检测设备,其特征在于,包括: 光源模块,用于提供检测光,所述检测光在待测物表面形成检测光斑,所述检测光经所述待测物形成信号光; 探测模块,用于探测所述待测物表面探测区内的第一信号光,所述检测光斑与所述探测区至少部分重叠; 调整模块,用于调整所述第一信号光的检测区域的尺寸;其中,所述调整模块用于在对所述待测物远离其中心的区域进行检测时,将所述第一信号光的检测区域调整为第一尺寸,在对所述待测物靠近其中心的区域进行检测时,将所述第一信号光的检测区域调整为第二尺寸,在垂直于所述探测模块的扫描方向的方向上,所述第一尺寸大于所述第二尺寸。 10.根据权利要求9所述的检测设备,其特征在于, 所述调整模块用于调整所述检测光斑的尺寸和/或调整所述检测区的尺寸; 所述调整模块用于在对所述待测物远离其中心的区域进行检测时,将所述检测光斑的尺寸调整为第一尺寸,在对所述待测物靠近其中心的区域进行检测时,将所述检测光斑的尺寸调整为第二尺寸,且在垂直于所述探测模块的扫描方向的方向上,所述第一尺寸大于所述第二尺寸,在任一方向上,所述检测光斑的尺寸大于小于所述检测区的尺寸; 和/或,所述调整模块用于在对所述待测物远离其中心的区域进行检测时,将所述探测区的尺寸调整为第一尺寸,在对所述待测物靠近其中心的区域进行检测时,将所述探测区的尺寸调整为第二尺寸,在垂直于所述探测模块的扫描方向的方向上,所述第一尺寸大于所述第二尺寸,在任一方向上,所述探测区的尺寸大于小于所述检测光斑的尺寸。 11.根据权利要求9所述的检测设备,其特征在于,所述探测模块的扫描方式包括同心圆扫描方式和螺旋扫描方式。 12.根据权利要求9所述的检测设备,其特征在于,所述调整模块包括光斑调整单元、区域调整单元和控制单元; 所述光斑调整单元位于所述检测光的光路上,用于调整所述待测物表面形成的检测光斑的尺寸; 所述区域调整单元位于所述信号光的光路上,用于调整所述探测区的尺寸; 所述控制单元通过控制所述光斑调整单元,调整所述检测光斑的尺寸,通过控制所述区域调整单元,调整所述探测区的尺寸。 13.根据权利要求9所述的检测设备,其特征在于,所述调整模块包括光斑调整单元和控制单元; 所述光斑调整单元位于所述检测光的光路上,用于调整所述待测物表面形成的检测光斑的尺寸; 所述控制单元通过控制所述光斑调整单元,调整所述检测光斑的尺寸,通过控制所述探测模块感兴趣的探测区的尺寸,调整所述探测区的尺寸。 14.根据权利要求12或13所述的检测设备,其特征在于,所述光斑调整单元包括至少一个第一扩束组件和/或至少一个第一光阑组件; 所述控制单元用于控制所述第一扩束组件进入所述检测光的光路,和/或,控制所述第一光阑组件离开所述检测光的光路,以将所述检测光斑的尺寸调整为第一尺寸,用于控制所述第一扩束组件离开所述检测光的光路,和/或,控制所述第一光阑组件进入所述检测光的光路,以将所述检测光斑的尺寸调整为第二尺寸。 15.根据权利要求14所述的检测设备,其特征在于,所述第一扩束组件包括多个第一扩束区,和/或,所述第一光阑组件包括多个第一透光区; 所述检测光经过不同的第一扩束区后光斑的尺寸不同,所述检测光经过不同的第一透光区后光斑的尺寸不同; 所述控制单元还用于在控制所述第一扩束组件进入所述检测光的光路之后,控制不同的第一扩束区位于所述检测光的光路上,和/或,在控制所述第一光阑组件进入所述检测光的光路之后,控制不同的第一透光区位于所述检测光的光路上,以获得不同的检测光斑尺寸。 16.根据权利要求12所述的检测设备,其特征在于,所述区域调整单元包括至少一个第二光阑组件; 所述控制单元用于控制所述第二光阑组件离开所述信号光的光路,以将所述探测区的尺寸调整为第一尺寸,控制所述第二光阑组件进入所述信号光的光路,以将所述探测区的尺寸调整为第二尺寸。 17.根据权利要求16所述的检测设备,其特征在于,所述探测模块包括镜头组件和探测器,所述镜头组件用于收集所述信号光,所述探测器用于探测所述镜头组件收集的所述信号光,所述第二光阑组件设于所述探测器的感光面。 18.根据权利要求16所述的检测设备,其特征在于,所述第二光阑组件包括多个第二透光区; 所述信号光经过不同的第二透光区后光斑的尺寸不同; 所述控制单元还用于在控制所述第二光阑组件进入所述信号光的光路之后,控制不同的第二透光区位于所述信号光的光路上,以获得不同的探测区尺寸。 |
所属类别: |
发明专利 |