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原文传递全焦面零像散成像光谱仪

专利名称：	全焦面零像散成像光谱仪
摘要：	本实用新型提供一种全焦面零像散成像光谱仪，包括：入射板、光学器件、校正板、成像反射镜和探测器；光学器件用于将经过其的光束进行分光，入射板上设有用于信号光射入的入射狭缝；信号光经入射狭缝射入，经过所述光学器件、校正板和成像反射镜后聚焦成像于所述探测器上；其中，所述校正板位于所述入射板与光学器件之间，和/或所述校正板位于所述光学器件与成像反射镜之间；该光谱仪利用校正板校正其光学系统的球差、慧差和像散，不仅实现全焦面零像散校正，且大大提高了该成像光谱仪的分辨率及其成像质量；另外，将校正板置于该光谱仪中的不同的光学器件之间，提高该光谱仪的灵活性。
专利类型：	实用新型
国家地区组织代码：	江苏;32
申请人：	苏州徕谱科技有限公司
发明人：	黄冲;王立峰
专利状态：	有效
申请日期：	2022-07-04T00:00:00+0800
发布日期：	2022-12-30T00:00:00+0800
申请号：	CN202221698703.2
公开号：	CN218180659U
分类号：	G01N21/31;G01N21/01;G;G01;G01N;G01N21;G01N21/31;G01N21/01
申请人地址：	215600 江苏省苏州市张家港市华昌路沙洲湖科创园G-1幢D402室
主权项：	1.一种全焦面零像散成像光谱仪，其特征在于：包括：入射板、光学器件、校正板、成像反射镜和探测器;所述入射板上设有用于信号光射入的入射狭缝，所述光学器件用于将经过其的光束进行分光;信号光经所述入射狭缝射入，经过所述光学器件、校正板和成像反射镜后聚焦成像于所述探测器上；其中，所述校正板位于所述入射板与光学器件之间，和/或所述校正板位于所述光学器件与成像反射镜之间。 2.根据权利要求1所述的全焦面零像散成像光谱仪，其特征在于：所述光学器件包括反射式凹面衍射光栅，所述信号光经所述入射板照射至所述反射式凹面衍射光栅上，经所述反射式凹面衍射光栅的反射后射入所述校正板；或者所述信号光经所述入射板照射至所述校正板上，校正后的所述信号光射入所述反射式凹面衍射光栅上，再经所述成像反射镜聚焦至所述探测器。 3.根据权利要求1所述的全焦面零像散成像光谱仪，其特征在于：所述光学器件包括准直反射镜与平面反射式衍射光栅或色散棱镜，所述信号光经所述入射板照射至所述准直反射镜上，准直后的平行光束经所述平面反射式衍射光栅色散或色散棱镜至所述校正板上，再反射至所述成像反射镜后聚焦成像于所述探测器上；或者所述信号光经所述入射板照射至所述校正板上，校正后的所述信号光射入所述准直反射镜上，校正并准直后的平行光束经所述平面反射式衍射光栅或色散棱镜色散至所述成像反射镜上，再聚焦到所述探测器上。 4.根据权利要求1或3所述的全焦面零像散成像光谱仪，其特征在于：所述校正板包括第一校正板与第二校正板，所述第一校正板位于所述入射板与光学器件之间，所述第二校正板位于所述光学器件与成像反射镜之间。 5.根据权利要求1所述的全焦面零像散成像光谱仪，其特征在于：所述光学器件与所述成像反射镜之间的距离等于所述成像反射镜反射面的曲率半径。 6.根据权利要求3所述的全焦面零像散成像光谱仪，其特征在于：所述准直反射镜与成像反射镜包括凹面反射镜，且其面型包括球面或非球面，所述非球面包括偶次非球面、轮胎面、或自由曲面。 7.根据权利要求3所述的全焦面零像散成像光谱仪，其特征在于：所述平面反射式衍射光栅包括刻划光栅、全息光栅。 8.根据权利要求1至3任一项所述的全焦面零像散成像光谱仪，其特征在于：所述校正板包括施密特校正板，所述施密特校正板包括偶次非球面反射镜。 9.根据权利要求1至3任一项所述的全焦面零像散成像光谱仪，其特征在于：所述入射狭缝的形状为矩形或者圆形。 10.根据权利要求1至3任一项所述的全焦面零像散成像光谱仪，其特征在于：所述探测器包括平面探测器或单点探测器，所述平面探测器为CCD、CMOS或PDA，所述单点探测器为光电二极管、光电倍增管或单光子计数器。