专利名称: | 布线电路基板的制造方法 |
摘要: | 本发明是一种布线电路基板的制造方法,具备:准备基底绝缘层的工 序;在基底绝缘层上形成布线的工序;在基底绝缘层上形成覆盖布线的被 覆绝缘层的工序;向被覆绝缘层照射波长超过700nm、不足950nm的光、 利用来自被覆绝缘层的反射光检测异物的工序。 |
专利类型: | 发明专利 |
申请人: | 日东电工株式会社 |
发明人: | 丰田佳弘 |
专利状态: | 有效 |
申请日期: | 2008-10-29T00:00:00+0800 |
发布日期: | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
申请号: | CN200810173144.1 |
公开号: | CN101426339 |
代理机构: | 上海专利商标事务所有限公司 |
代理人: | 张 鑫 |
分类号: | H05K3/00(2006.01)I |
申请人地址: | 日本大阪府 |
主权项: | 1. 一种布线电路基板的制造方法,其特征在于,具备如下工序: 准备基底绝缘层的工序, 在所述基底绝缘层上形成布线的工序, 在所述基底绝缘层上形成覆盖所述布线的被覆绝缘层的工序, 向所述被覆绝缘层照射波长超过700nm、不足950nm的光,利用来自 所述被覆绝缘层的反射光检测异物的工序。 |
所属类别: | 发明专利 |