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基板处理装置和涂敷装置以及涂敷方法
| 专利名称： | 基板处理装置和涂敷装置以及涂敷方法 |
| 摘要： | 本发明提供一种基板处理装置和涂敷装置和涂敷方法，其特征在 于：在悬浮载物台上将矩形的被处理基板以简易的结构保持为适合处 理的一定的姿势并稳定地进行悬浮搬送。第一(左侧)和第二(右侧) 的搬送部(84L、84R)中的第一和第二保持部(106L、106R)，具有： 分别通过真空吸附力结合在基板G的左侧两个角落的背面(下表面) 和右侧两个角落的背面(下表面)的两个吸附垫(108L、108R)；沿着 搬送方向(X方向)在隔开规定间隔的两个位置限制各吸附垫(108L、 108R)在铅垂方向的位移并进行支撑的一对垫支撑部(110L、110R)； 使上述一对垫支撑部(110L、110R)分别独立地进行升降移动或者升 降位移的一对的垫致动器(112L、112R)。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 申请人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 发明人： | 筱崎贤哉;大塚庆崇;中满孝志;池本大辅;三根阳介 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请日期： | 2008-11-05T00:00:00+0800 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN200810174786.3 |
| 公开号： | CN101431008 |
| 代理机构： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 |
| 代理人： | 龙 淳 |
| 分类号： | H01L21/00(2006.01)I |
| 申请人地址： | 日本国东京都 |
| 主权项： | 1. 一种基板处理装置，其特征在于，包括： 载物台，以气体的压力使矩形的被处理基板悬浮；以及 搬送部，其具有可离合地保持悬浮在所述载物台上的状态的所述 基板的保持部，并为了在所述载物台上在规定的搬送方向悬浮搬送所 述基板，而使所述基板与所述保持部一体地在所述搬送方向移动； 所述保持部具有局部保持相对于所述基板的搬送方向在左右一侧 的两个角落的、实际上不弯曲的保持部件；和用于使所述保持部件升 降移动或者位移的升降部。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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